[发明专利]用于制备太阳电池的半导体薄膜的含Sb溶液体系及制备方法无效
申请号: | 201110106517.5 | 申请日: | 2011-04-27 |
公开(公告)号: | CN102290484A | 公开(公告)日: | 2011-12-21 |
发明(设计)人: | 敖建平;张超;孙顶;王利;姜韬;孙国忠;周志强;何青 | 申请(专利权)人: | 南开大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;C25D3/56;C25D3/54;C23C18/00 |
代理公司: | 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 | 代理人: | 颜济奎 |
地址: | 300071*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制备 太阳电池 半导体 薄膜 sb 溶液 体系 方法 | ||
技术领域
本发明涉及太阳电池领域的半导体薄膜制备技术,特别是用于制备太阳电池的半导体薄膜的含Sb溶液体系及制备方法。
背景技术
Cu(In1-xGax)Se2(简称CIGS)薄膜太阳电池具有直接带隙结构,吸收系数高,转化效率高,是最有发展前途的新型薄膜电池之一。自1976年美国Maine州大学首次开发出CIS薄膜太阳电池,转换效率达到6.6%,CIGS电池已经发展了近40年。制备方法大体可以分为两类:一类是真空沉积技术,另一类是非真空沉积技术。真空沉积技术主要包括共蒸发法、溅射硒化法等方法;非真空沉积技术包括电沉积、丝网印刷法和喷涂热解法等方法。2010年8月德国太阳能和氢能研究机构ZSW采用共蒸发法制备的CIGS电池的光电转化效率达到20.3%,是有报道的CIGS薄膜电池的最高转化效率。实验室效率不断提高的同时,人们不断研究CIGS薄膜电池连续化大生产的工艺,采用低温柔性衬底和非真空沉积技术是人们研究的主要方向。由于CIGS薄膜最佳生长温度在550℃以上不适合大部分柔性衬底,因此,人们致力于研究在低温下改善CIGS薄膜的结晶质量。经过人们的大量研究发现,掺入某些金属或非金属杂质有利于改善CIGS薄膜的结构形貌和电学性质,例如,在CIGS薄膜的制备过程中掺入Na元素可以有效的提高CIGS薄膜的载流子浓度,使之电学性能得到改善。在CIS薄膜的早期研究中,利用化学方法或离子注入的方法掺入Tl、Cd、Bi、N、P、Sb、Bi等杂质元素来改变CIS材料的导电类型。在制备CuInSe和CuInS2薄膜时,有报道指出用蒸发和离子注入的方式掺入Sb可以改善薄膜的特性,提高电池效率,但是对薄膜晶粒的长大没有作用。在喷涂法制备CIGS薄膜中,有报道在喷涂溶液中加入Sb2S3,可以增大晶粒尺寸,但是仅对含有Ga的CIGS薄膜有效。
探索CIGS薄膜电池的工业化路线,非真空沉积技术是人们瞩目的焦点。非真空沉积技术不需要昂贵的真空设备,设备投资小,原材料利用率高,生长速度快,更适合大规模生产。非真空沉积技术制备CIGS薄膜一般分为两个步骤,即预置层的制备和热退火处理。预置层的制备主要是沉积合适的化学计量比的CIGS薄膜主要成分,经过热退火处理,改善预置层的结晶质量,使之具有CIGS半导体特性。非真空沉积CIGS薄膜一般晶粒尺寸小,结晶质量差,严重的影响电池效率。在预置层的制备过程中和热处理过程中,少量掺入Sb有效的改善CIGS薄膜晶粒尺寸,对非真空沉积法制备CIGS薄膜有着深远的意义。
发明内容
本发明的目的是提供一种含Sb的溶液体系及制备方法,利用电沉积和化学水浴的方法, 将锑合金、金属锑及其化合物掺入CIS/CIGS薄膜制备的各个环节当中,其中锑在组分中的比例为0.1%~4%mol,该方法有效的改善了CIS/CIGS薄膜的结晶质量,增大了薄膜晶粒的尺寸。方法简单实用,适合于各种CIGS的制备工艺,并且适合大规模工业化连续生产的应用。
本发明的技术方案:
提供一种含Sb的溶液体系及制备方法,利用电沉积和化学水浴的方法将将锑合金、金属锑及其化合物掺入CIS/CIGS薄膜制备的各个环节当中,其中锑在组分中的比例为0.1%~4%mol。
所述一种含Sb的溶液体系,由金属盐、导电盐、有机酸、无机酸和溶剂水组成,各组分在溶液体系的含量为:金属盐(0.1~0.5mol/L)、导电盐(1~4mol/L)、有机酸(0.5~3mol/L)、无机酸(0.01~0.1mol/L),用饱和碱性溶液调节pH值到1~6.0。
所述的金属盐为金属Sb盐,金属Sb与Cu或In的金属盐,其中金属盐为氯化物盐、硫酸盐或硝酸盐。
所述导电盐为钠盐、钾盐或锂盐或两种或两种以上任意比例混合物。
所述有机酸为甲基磺酸、乙基磺酸、丙磺酸、2-丁磺酸、戊磺酸、己磺酸、庚磺酸、氨基磺酸、氨基丙磺酸、柠檬酸、酒石酸或甘氨酸。
所述无机酸为硫酸、盐酸或硝酸。
所述碱性溶液为KOH、NaOH或LiOH的饱和溶液。
所述CIS/CIGS薄膜的制备环节为,根据制备CIGS薄膜的制备工艺不同,锑及其化合物可以在CIGS预制层中掺入,也可以在CIGS薄膜热处理后掺入,再进行热处理,也可以与Cu、In、Ga、Se共沉积。
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