[发明专利]能够抵抗太阳光干扰的视觉检测系统及方法

权利要求书

1.一种能够抵抗太阳光干扰的视觉检测系统，包括：摄像机、激光器、反射标志和处理系统，其特征在于：激光器与摄像机并列设置于检测系统的测量点位置并分别与处理系统相连，反射标志设置于被测目标的任一特征点上并与被测目标之间无相互位移，激光器与处理系统相连并接收控制指令，激光器正对反射标志射出激光并照亮反射标志，摄像机获取反射标志的图像并将图像传输到处理系统，处理系统对图像进行处理并获得反射标志的具体位置。

2.根据权利要求1所述的能够抵抗太阳光干扰的视觉检测系统，其特征是，所述的反射标志由基板和反射层组成，其中：基板为中心对称结构的轻质板材，由亚光漫反射材料制成，反射层位于基板的几何中心。

3.根据权利要求1所述的能够抵抗太阳光干扰的视觉检测系统，其特征是，所述的反射层由薄膜层和位于薄膜层表面的微棱镜组成，其中：薄膜层为透明塑料膜材料制成，微棱镜为聚氯乙烯为原材料制成的颗粒组成。

4.根据权利要求1所述的能够抵抗太阳光干扰的视觉检测系统，其特征是，所述的基板的面积大于反射层的面积。

5.根据权利要求1所述的能够抵抗太阳光干扰的视觉检测系统，其特征是，所述的反射标志设置有敏感区，是指包含反射层在内的一个区域范围，该敏感区小于整个反射标志基板的区域。

6.一种根据上述任一权利要求所述系统的处理方法，其特征在于，由处理系统发出控制指令至激光器，启动激光器发出聚焦准直光束至反射标志，并由摄像机获取反射标志的图像并传输至处理系统，最后通过处理系统对摄像机获取的图像进行图像处理获得反射标志的中位置坐标；

所述的图像处理是指：

步骤一、初定位：以每个反射标志的初始位置为中心，在所获得的图像上开设若干个测量窗口，测量窗口的数量与反射标志的数量相同，测量窗口的大小大于反射标志可能到达的位置；

步骤二、预处理：分别在每个测量窗口内进行包括中值滤波、腐蚀膨胀处理，去除噪声和干扰的图像预处理；

步骤三、提取轮廓：分别在每个测量窗口内在上述敏感区内进行二值化处理，得到该反射标志的反射层轮廓；

步骤四、计算位置：分别在每个测量窗口内，利用得到的反射标志反射层的边缘，通过最小二乘拟合得到中点的、以图像所在的视觉系统坐标系为基准的坐标；

步骤五、换算：利用视觉系统与被测目标系统的空间坐标关系，通过坐标变化和换算，最终得到被测反射标志的空间位置坐标，从而实现了反射标志的定位。