[发明专利]一种光致抗蚀剂的剥离液组合物无效
| 申请号： | 201110109548.6 | 申请日： | 2011-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN102221791A | 公开（公告）日： | 2011-10-19 |
| 发明（设计）人： | 张军;常积东;李承孝 | 申请（专利权）人： | 西安东旺精细化学有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 徐平 |
| 地址： | 710075 陕西省西安*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光致抗蚀剂 剥离 组合 | ||
1.一种光致抗蚀剂的剥离液组合物，其特征在于：包含
(1)无机碱，含量为1wt％-25wt％；
(2)氨水或/和至少一种铵盐，含量为0.1-30wt％；
(3)防腐蚀剂，含量为0.1-15wt％；
(4)余量为水。
2.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂的剥离液组合物，其特征在于：所述的无机碱包括氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂中的一种或两种。
3.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂的剥离液组合物，其特征在于：所述的铵盐包括硫酸铵、硫酸氢胺、亚硫酸铵、亚硫酸氢铵、硝酸铵、碳酸铵、碳酸氢铵、氯化铵、溴化铵、氟化铵、磷酸铵、氨基磺酸铵、甲酸铵、乙酸铵、草酸铵、柠檬酸铵、苯甲酸铵、二硫代氨基甲酸铵中的一种或两种。
4.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂的剥离液组合物，其特征在于：所述的防腐蚀剂包括芳香族羟基化合物或/和唑类化合物中的至少一种。
5.根据权利要求4所述的光致抗蚀剂的剥离液组合物，其特征在于：所述芳香族羟基化合物选择没食子酸、单宁酸、植酸、邻苯二酚、对苯二酚中的至少一种，唑类化合物选择三氮唑、甲基三氮唑、苯并三氮唑、苯并四氮唑、氨基四氮唑中的至少一种。
6.根据权利要求1至5任一所述的光致抗蚀剂的剥离液组合物，其特征在于：(1)无机碱，含量为5-20wt％；
(2)氨水或/和至少一种铵盐，含量为1-25wt％；
(3)防腐蚀剂，含量为0.3-10wt；
(4)余量为水。
7.根据权利要求6所述的光致抗蚀剂的剥离液组合物，其特征在于：
(1)无机碱，含量为8-15wt％；
(2)氨水或/和至少一种铵盐，含量为5-20wt％；
(3)防腐蚀剂，含量为0.5-8wt％；
(4)余量为水。
8.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂的剥离液组合物，用于封装基板的光致抗蚀剂膜的剥离。
9.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂的剥离液组合物，用于PCB、FPC、TFT、LCD的光致抗蚀剂膜的剥离。
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