[发明专利]基于微分散射的亚埃级超光滑透明表面测试系统

权利要求书

1.一种基于微分散射的亚埃级超光滑透明基片表面测量系统，其特征是高精度、稳定的测试超光滑表面的微观结构信息。通过以下步骤实现：

(1)全刚性联接结构。

在亚埃级超光滑透明基片表面测量系统中，所有部件都采用刚性联接结构，保证各个部分的相对位置保持恒定不变，消除这些可变因素对散射光微分散射的影响。

(2)相互独立且高精度的转台系统。

转台系统做到分别独立控制，可以选在在任意的入射角和散射角方向对超光滑基片表面的微分散射功率进行测量。

(3)精确的偏振角度控制系统。

通过控制起偏器和检偏器的偏振角度选择，消除基片的体散射，测量其表面散射的大小。偏振角度的选择必须做到高精度、连续变化，能够在任意偏振角度测量其微分散射功率。

(4)高稳定性的同轴运转。

测量系统在运行过程中要做到：(1)整个光路的转播平面与光学平台平行；(2)起偏器和检偏器必须位于s-p平面内；(3)两个同心转台及样品支撑柱必须同轴放置，其转动平面平行于光学平台；(4)基片表面必须与转台的中轴线重合；(5)转台在转动过程中必须围绕其中轴线转动。

2.如权利要求1所述的基于微分散射的亚埃级超光滑透明基片表面测量系统，其特征在于运用一阶微分散射理论，从原理上完全消除透明基片体散射对表面散射的影响，独立有效地测试基片表面散射。

3.如权利要求1所述的基于微分散射的亚埃级超光滑透明基片表面测量系统，其特征在于转台、检偏器、光电探测系统相对于转台系统为全刚性联接方式。

4.如权利要求1所述的基于微分散射的亚埃级超光滑透明基片表面测量系统，其特征在于可以在不同的入射角和散射角方向对超光滑表面基片进行微分散射检测。

5.如权利要求1所述的基于微分散射的亚埃级超光滑透明基片表面测量系统，其特征在于两个相同的转台同轴水平叠放，转台采用独立自由运转方式，可以进行多角度，大范围测量。

6.如权利要求1所述的基于微分散射的亚埃级超光滑透明基片表面测量系统，其特征在于测试样品通过样品支撑柱与转台同轴固联，避免了使用样品延伸臂而导致系统易翻倒的问题。