[发明专利]一种核微孔膜的生产方法无效
| 申请号： | 201110112683.6 | 申请日： | 2011-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN102188909A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 崔清臣;凌红旗;晏光明;黄海龙 | 申请（专利权）人： | 中山国安火炬科技发展有限公司 |
| 主分类号： | B01D67/00 | 分类号： | B01D67/00;G09F3/02 |
| 代理公司： | 中山市汉通知识产权代理事务所 44255 | 代理人： | 田子荣 |
| 地址： | 528437 广东省中*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 微孔 生产 方法 | ||
1.一种核微孔膜的生产方法，其特征在于包括如下步骤：
(一)辐照：对高分子薄膜进行辐照；
(二)蚀刻：将辐照后的高分子薄膜放在酸液(或碱液)中蚀刻形成微孔；
(三)涂布堵孔：对不需要形成微孔位置的高分子薄膜进行涂布堵孔，形成具有完整加密信息的微孔膜。
2.根据权利要求1所述的一种核微孔膜的生产方法，其特征在于：所述涂布过程中使用的涂料为高强度涂料。
3.根据权利要求1所述的一种核微孔膜的生产方法，其特征在于：所述涂布过程中使用的涂料为光油树脂。
4.根据权利要求1至3任所述的一种核微孔膜的生产方法，其特征在于：所述辐照过程中使用的高分子薄膜为单层PET膜。
5.根据权利要求1至3任一所述的一种核微孔膜的生产方法，其特征在于：当所述辐照过程中所使用的高分子薄膜为一层PET膜和一层保护膜复合形成的双层膜时，则在涂布堵孔完成后增加步骤(四)剥离所述保护膜。
6.根据权利要求5所述的一种核微孔膜的生产方法，其特征在于：所述保护膜采用抗酸碱蚀刻材料制作。
7.根据权利要求1至3任一所述的一种核微孔膜的生产方法，其特征在于：当所述辐照过程中所使用的高分子薄膜为一层PET膜和一层保护膜复合形成的双层膜时，则在蚀刻后涂布堵孔前先剥离所述保护膜。
8.根据权利要求7所述的一种核微孔膜的生产方法，其特征在于：所述保护膜采用抗酸碱蚀刻材料制作。
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