[发明专利]一种像素结构及其制造方法、显示装置无效

专利信息
申请号: 201110112770.1 申请日: 2011-05-03
公开(公告)号: CN102655161A 公开(公告)日: 2012-09-05
发明(设计)人: 杨国波 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/56
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 罗建民;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 像素 结构 及其 制造 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种像素结构,包括至少一个像素,所述像素位于上基板和下基板之间,每个所述像素包括红色亚像素、绿色亚像素和蓝色亚像素,其特征在于,

所述红色亚像素、绿色亚像素和蓝色亚像素的发光面积的比例关系与对应填充因子之间的比例关系成正比;

所述填充因子之间的比例关系是在所述红色亚像素、绿色亚像素和蓝色亚像素的使用寿命相等的情况下计算得到。

2.根据权利要求1所述的像素结构,其特征在于,各亚像素的电流密度和使用寿命的关系如下公式所示:

T=cId

其中,T为所述亚像素的寿命,I为所述亚像素上的电流密度,c、d为常数。

3.根据权利要求2所述的像素结构,其特征在于,所述亚像素的电流密度和实际发光亮度之间的关系如下公式所示:

I=Y3-ba]]>

其中,I为所述亚像素上的电流密度,Y3为所述亚像素的实际发光亮度,a、b为常数。

4.根据权利要求2所述的像素结构,其特征在于,所述亚像素的实际发光亮度与理论发光亮度之间的关系如下公式所述:

Y3=βY2

其中,β为所述亚像素的填充因子,Y2为所述亚像素的理论发光亮度,Y3为所述亚像素的实际发光亮度。

5.根据权利要求4所述的像素结构,其特征在于,所述亚像素的目标外部亮度与理论发光亮度之间的关系如下公式所述:

Y1=Y2η

其中,η为所述亚像素的光学转换因子,Y1为所述亚像素的目标外部亮度,Y2为所述亚像素的理论发光亮度。

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