[发明专利]一种常压固相烧结微孔碳化硅陶瓷及其制备方法有效
申请号: | 201110114635.0 | 申请日: | 2011-05-04 |
公开(公告)号: | CN102765940A | 公开(公告)日: | 2012-11-07 |
发明(设计)人: | 陈健;黄政仁;刘学建;高剑琴 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
主分类号: | C04B35/565 | 分类号: | C04B35/565;C04B35/622;C04B35/64;C04B38/00 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 许亦琳;余明伟 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 常压 烧结 微孔 碳化硅 陶瓷 及其 制备 方法 | ||
1.一种固相烧结微孔碳化硅陶瓷的制备方法,包括如下步骤:
1)以SiC粉体、B4C粉体、球形PMMA和酚醛树脂为原料,其中,以SiC粉体和B4C粉体的总重量为基准计,B4C占0.1~1%;球形PMMA为SiC粉体和B4C粉体总重量的0.5~5.5%,酚醛树脂为SiC粉体和B4C粉体总重量的10-30%;
2)将所述原料配成固含量为40-45wt%的浆料,进行球磨混合;
3)将球磨混合后的浆料烘干,再研磨粉碎后过筛,将得到的粉体干压成型;
4)将成型后的样品真空脱粘后,在常压惰性气氛条件下烧结,烧结温度为1900-2300℃,保温时间为1-2h。
2.如权利要求1所述的固相烧结微孔碳化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,所述SiC粉体的粒径为0.1~1μm。
3.如权利要求1所述的固相烧结微孔碳化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,步骤2)中所述球磨混合以SiC球作为研磨球。
4.如权利要求1所述的固相烧结微孔碳化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,步骤3)中,所述干压成型的压力为15-100MPa。
5.如权利要求1所述的固相烧结微孔碳化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,步骤3)中,于所述干压成型后还进行等静压处理。
6.如权利要求1-5中任一所述的固相烧结微孔碳化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,所述等静压的压力为190-210MPa。
7.一种微孔碳化硅陶瓷,由权利要求1-6中任一所述的固相烧结微孔碳化硅陶瓷的制备方法制得。
8.如权利要求7所述的微孔碳化硅陶瓷,其特征在于,所述碳化硅陶瓷的密度为2.90-3.08gcm-3,抗弯强度为250-450Mpa。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海硅酸盐研究所,未经中国科学院上海硅酸盐研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110114635.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:印刷用涂布纸及其制造方法
- 下一篇:混波器单元、调制器及方法