[发明专利]一种常压固相烧结微孔碳化硅陶瓷及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201110114635.0 申请日: 2011-05-04
公开(公告)号: CN102765940A 公开(公告)日: 2012-11-07
发明(设计)人: 陈健;黄政仁;刘学建;高剑琴 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: C04B35/565 分类号: C04B35/565;C04B35/622;C04B35/64;C04B38/00
代理公司: 上海光华专利事务所 31219 代理人: 许亦琳;余明伟
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 常压 烧结 微孔 碳化硅 陶瓷 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种固相烧结微孔碳化硅陶瓷的制备方法,包括如下步骤:

1)以SiC粉体、B4C粉体、球形PMMA和酚醛树脂为原料,其中,以SiC粉体和B4C粉体的总重量为基准计,B4C占0.1~1%;球形PMMA为SiC粉体和B4C粉体总重量的0.5~5.5%,酚醛树脂为SiC粉体和B4C粉体总重量的10-30%;

2)将所述原料配成固含量为40-45wt%的浆料,进行球磨混合;

3)将球磨混合后的浆料烘干,再研磨粉碎后过筛,将得到的粉体干压成型;

4)将成型后的样品真空脱粘后,在常压惰性气氛条件下烧结,烧结温度为1900-2300℃,保温时间为1-2h。

2.如权利要求1所述的固相烧结微孔碳化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,所述SiC粉体的粒径为0.1~1μm。

3.如权利要求1所述的固相烧结微孔碳化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,步骤2)中所述球磨混合以SiC球作为研磨球。

4.如权利要求1所述的固相烧结微孔碳化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,步骤3)中,所述干压成型的压力为15-100MPa。

5.如权利要求1所述的固相烧结微孔碳化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,步骤3)中,于所述干压成型后还进行等静压处理。

6.如权利要求1-5中任一所述的固相烧结微孔碳化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,所述等静压的压力为190-210MPa。

7.一种微孔碳化硅陶瓷,由权利要求1-6中任一所述的固相烧结微孔碳化硅陶瓷的制备方法制得。

8.如权利要求7所述的微孔碳化硅陶瓷,其特征在于,所述碳化硅陶瓷的密度为2.90-3.08gcm-3,抗弯强度为250-450Mpa。

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