[发明专利]光刻设备

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

阻挡构件，所述阻挡构件设置用于在投影系统和衬底之间围成空隙并且至少部分地将液体限制在所述空隙中，所述阻挡构件包括：

抽取器，所述抽取器用于将液体从所述阻挡构件和所述衬底之间去除，以及

板，所述板设置在所述抽取器和所述衬底之间，以使得对所述空隙开放的第一通道形成于所述抽取器和所述板之间，并且使对所述空隙开放的第二径向延伸通道形成于所述板和所述衬底之间。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一通道是沿径向延伸的。

3.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述第一通道比第二通道窄。

4.根据权利要求1，2或3所述的设备，其中所述第一通道沿径向向外的方向变窄。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的设备，其中所述第二通道沿径向向外的方向变宽。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的设备，其中所述板具有弯月面锁定特征，使其积极地防止粘附到所述特征上的弯月面沿径向向外移动所述特征。

7.根据权利要求6所述的设备，其中所述特征包括端口，所述端口设置成连接到负压源、过压源，或者这两者，以在所述弯月面上产生气流。

8.根据权利要求7所述的设备，其中端口围绕整个阻挡构件延伸。

9.根据权利要求8所述的设备，其中所述端口包括多个独立可控部分，以使得所述端口的一部分可以接通负压，而另一部分可以接通过压。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的设备，其中所述板的底表面具有形成于其上的台阶，以使得所述第二通道沿台阶径向向外变宽。