[发明专利]电镀液及电镀方法

权利要求书

1.一种或多种咪唑化合物与一种或多种含环氧基的化合物的反应产物，其中所述至少一种咪唑化合物具有结构式

其中，R¹、R²和R³独立地选自H、(C₁-C₁₂)烷基、(C₂-C₁₂)烯基和芳基，前提条件是R¹和R²不同时为H。

2.如权利要求1所述的反应产物，其特征在于，R¹、R²和R³独立地选自H、(C₁-C₈)烷基、(C₂-C₇)烯基或者芳基。

3.如权利要求1所述的反应产物，其特征在于，每个所述(C₁-C₁₂)烷基和所述(C₂-C₁₂)烯基被羟基、卤素和芳基中的一种或多种取代。

4.如权利要求1所述的反应产物，其特征在于，所述含环氧基的化合物选自具有以下结构式的化合物

其中Y、Y¹和Y²是分别选自H和(C₁-C₄)烷基；X＝卤素；A＝OR⁴或者R⁵；R⁴＝((CR⁶R⁷)_mO)_n、(芳基-O)_p、CR⁶R⁷-Z-CR⁶R⁷O或者OZ¹_tO；R⁵＝(CH₂)_y；Al是(C₅-C₁₂)环烷基；Z＝5元环或者6元环；Z¹是R¹²OArOR¹²、(R¹³O)_aAr(OR¹³)_a或者(R¹³O)_aCy(OR¹³)_a；Cy＝(C₅-C₁₂)环烷基；；每个R⁶和R⁷独立地选自H、CH₃和OH；每个R¹¹代表(C₁-C₄)烷基或者(C₁-C₄)烷氧基；每个R¹²代表(C₁-C₈)烷基；每个R¹³代表(C₂-C₆)亚烷基氧基；每个a＝1-10；m＝1-6；n＝1-20；p＝1-6；q＝1-6；r＝0-4；t＝1-4；和y＝0-6；其中Y和Y¹可以结合起来形成(C₈-C₁₂)环状化合物。

5.一种铜电镀液，包括：铜离子源、电解质和流平剂，其中该流平剂是一种或多种咪唑化合物与一种或多种含环氧基的化合物的反应产物，其中所述至少一种咪唑化合物具有结构式

其中，R¹、R²和R³独立地选自H、(C₁-C₁₂)烷基、(C₂-C₁₂)烯基和芳基，前提条件是R¹和R²不同时为H。

6.如权利要求5所述的铜电镀液，其特征在于，R¹和R²中的至少一个选自(C₁-C₈)烷基、(C₃-C₇)烯基和芳基。