[发明专利]处理盒和电子照相成像设备有效

专利信息
申请号: 201110123024.2 申请日: 2008-10-24
公开(公告)号: CN102221809A 公开(公告)日: 2011-10-19
发明(设计)人: 菅野一彦;吉野靖史;大庭克彦 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G21/18 分类号: G03G21/18;G03G15/08;G03G15/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 张涛
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 处理 电子 照相 成像 设备
【权利要求书】:

1.一种可拆卸地安装在电子照相成像设备的主组件上的处理盒,所述电子照相成像设备包括第一主组件侧定位部分、第二主组件侧定位部分、用于向上施力的第一主组件侧施力构件、用于向上施力的第二主组件侧施力构件、第一主组件侧限制部分和第二主组件侧限制部分,所述处理盒包括:

电子照相感光鼓;

支撑所述电子照相感光鼓的鼓单元;

显影辊,用于对形成在所述电子照相感光鼓上的静电潜像进行显影,所述显影辊在与所述电子照相感光鼓接触的同时对所述静电潜像进行显影;

显影单元,其支撑所述显影辊并与所述鼓单元连接;

第一盒侧待定位部分,其构造成通过在所述处理盒安装到所述主组件时由所述第一主组件侧施力构件的施加力接触到所述第一主组件侧定位部分而在与所述电子照相感光鼓的纵向相交的方向上定位,所述第一盒侧待定位部分相对于所述处理盒安装到所述主组件的安装方向设置在所述鼓单元的下游;

第一盒侧待限制部分,用于通过由当所述处理盒安装到所述主组件时所述第一主组件侧施力构件的施加力向上施力来接触到所述第一主组件侧限制部分以限制向上运动,而防止所述第一盒侧待定位部分接触到所述第一主组件侧定位部分,所述第一盒侧待限制部分相对于所述安装方向设置在所述鼓单元的下游;

第一凹入表面,其相对于所述安装方向设置在所述第一盒侧待限制部分的上游并且具有比所述第一盒侧待限制部分的高度小的高度,其中所述第一凹入表面与所述第一主组件侧限制部分间隔开,当所述第一盒侧待定位部分定位到所述第一主组件侧定位部分时,所述第一主组件侧限制部分不与所述第一盒侧待限制部分接触;

第二盒侧待定位部分,其通过在所述处理盒安装到所述主组件时由所述第二主组件侧施力构件的施加力接触到所述第二主组件侧定位部分而在与所述电子照相感光鼓的纵向相交的方向上定位,所述第二盒侧待定位部分相对于所述安装方向设置在所述鼓单元的上游;

第二盒侧待限制部分,用于通过由当所述处理盒安装到所述主组件时所述第二主组件侧施力构件的施加力向上施力来接触到所述第二主组件侧限制部分以限制向上运动,而防止所述第二盒侧待定位部分接触到所述第二主组件侧定位部分,所述第二盒侧待限制部分相对于所述安装方向设置在所述鼓单元的上游;和

第二凹入表面,其相对于所述安装方向设置在所述第二盒侧待限制部分的上游并且具有比所述第二盒侧待限制部分的高度小的高度,其中所述第二凹入表面与所述第二主组件侧限制部分间隔开,当所述第二盒侧待定位部分定位到所述第二主组件侧定位部分时,所述第二主组件侧限制部分不与所述第二盒侧待限制部分接触。

2.如权利要求1所述的处理盒,还包括盒纵向定位部分,用于在所述处理盒安装到所述主组件时通过接触到设置在所述主组件中的主组件侧纵向定位部分而将所述处理盒定位在所述电子照相感光鼓的纵向上,所述盒纵向定位部分相对于所述安装方向设置在所述鼓单元的下游。

3.如权利要求1所述的处理盒,所述第一盒侧待定位部分布置在当所述处理盒安装到所述主组件时在一个纵向端部处位于上部位置处的表面上的两个位置中的每个位置处,并且所述第一盒侧待限制部分相对于与所述电子照相感光鼓的纵向垂直的方向设置在所述两个位置之间,并且其中所述第二盒侧待定位部分布置在当所述处理盒安装到所述主组件时在另一纵向端部处位于上部位置处的表面上的两个位置中的每个位置处,并且所述第二盒侧待限制部分相对于与所述电子照相感光鼓的纵向垂直的方向设置在所述两个位置之间。

4.如权利要求1所述的处理盒,还包括支撑所述电子照相感光鼓的一个纵向端部的第一轴承构件和支撑所述电子照相感光鼓的另一纵向端部的第二轴承构件,其中所述第一盒侧待定位部分和所述第一盒侧待限制部分布置在所述第一轴承构件的外表面上,并且所述第二盒侧待定位部分和所述第二盒侧待限制部分布置在所述第二轴承构件的外表面上。

5.如权利要求4所述的处理盒,其中,所述第一轴承构件设有所述第一凹入表面,并且所述第二轴承构件设有所述第二凹入表面。

6.如权利要求1所述的处理盒,其中,所述第一盒侧待定位部分和所述第二盒侧待定位部分向外凸出。

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