[发明专利]使用石墨烯薄层的树脂涂镀方法无效
申请号: | 201110123508.7 | 申请日: | 2011-05-13 |
公开(公告)号: | CN102251233A | 公开(公告)日: | 2011-11-23 |
发明(设计)人: | 裴娥贤;孙相益;南在度;李准镐;黄泰善;吴焌硕 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | C23C18/20 | 分类号: | C23C18/20;C25D5/56 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 王占杰;韩明星 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 使用 石墨 薄层 树脂 方法 | ||
1.一种树脂涂镀方法,所述树脂涂镀方法包括:
在树脂基底上形成石墨烯薄层;
对其上形成有所述石墨烯薄层的所述树脂基底进行电镀。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述石墨烯薄层如下形成:将氧化石墨烯分散体涂覆到所述树脂基底;进行氧化石墨烯涂层的还原。
3.根据权利要求2所述的方法,其中,在使用所述氧化石墨烯分散体涂布所述树脂基底之前,在所述树脂基底的表面上形成胺基。
4.根据权利要求3所述的方法,其中,所述胺基通过使用从由Ar和N2的气体混合物、H2和N2的气体混合物以及NH3组成的组中选择的气体的等离子体处理来产生。
5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述石墨烯薄层通过将膨胀石墨分散体涂覆到所述树脂基底来形成。
6.根据权利要求5所述的方法,其中,所述膨胀石墨分散体经过过滤,并通过湿转印过程涂覆到所述树脂基底。
7.根据权利要求1或2所述的方法,所述方法还包括:对其上形成有所述石墨烯薄层的所述树脂基底进行镀铜。
8.根据权利要求7所述的方法,其中,在镀铜之后获得的所述树脂基底使用从由Ni、Cu、Sn和Zn组成的组中选择的至少一种金属进行电镀。
9.根据权利要求5或6所述的方法,所述方法还包括:对其上形成有所述石墨烯薄层的所述树脂基底进行镀铜。
10.根据权利要求9所述的方法,其中,在镀铜之后获得的所述树脂基底使用从由Ni、Cu、Sn和Zn组成的组中选择的至少一种金属进行电镀。
11.根据权利要求1或2所述的方法,其中,所述石墨烯薄层使用从由Ni、Cu、Sn和Zn组成的组中选择的至少一种金属进行电镀。
12.根据权利要求5或6所述的方法,其中,所述石墨烯薄层使用从由Ni、Cu、Sn和Zn组成的组中选择的至少一种金属进行电镀。
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