[发明专利]胎模锻制造齿轮坯用工装无效
申请号: | 201110124234.3 | 申请日: | 2011-05-15 |
公开(公告)号: | CN102284661A | 公开(公告)日: | 2011-12-21 |
发明(设计)人: | 陈国华;刘云鹏;钱建石 | 申请(专利权)人: | 张家港海锅重型锻件有限公司 |
主分类号: | B21J13/02 | 分类号: | B21J13/02;B21J5/02;B21K1/30 |
代理公司: | 张家港市高松专利事务所 32209 | 代理人: | 孙高 |
地址: | 215600 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 锻制 齿轮 用工 | ||
技术领域
本发明涉及到一种制造齿轮坯用工装,具体涉及到一种用胎模锻方法制造齿轮坯时用的工装。
背景技术
随着工业的不断发展,齿轮1广泛地应用在各个行业中。齿轮1的结构如图1所示,齿轮1的中心设置有内孔11,齿轮1的上端面中设置有与内孔11同心的大环形凹槽12,大环形凹槽12的底面呈阶梯型,齿轮1的下端面中设置有与内孔11同心的小环形凹槽13。
目前大多采用模锻锤制造齿轮坯,但是由于模锻锤尺寸及配套设备的限制,所以其只能制造小型齿轮坯,要制造大型齿轮坯,必须扩大模锻锤的尺寸及更换配套设备,生产成本明显增加,并且模锻锤尺寸的扩大会导致齿轮坯在制造时充型不完整。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:提供一种既能制造小型齿轮坯,又能制造大型齿轮坯的胎模锻制造齿轮坯用工装,而且不会增加生产成本,能保证齿轮坯的充型完整。
为解决上述问题,本发明采用的技术方案是:胎模锻制造齿轮坯用工装,包括圆柱形的下模、圆柱形的上模和外套,所述下模的下端面为平面,下模的上端面上设置有与齿轮的上端面相配和的大环形凸台,大环形凸台呈阶梯型;所述上模的上端面为平面,上模的下端面上设置有与齿轮的下端面相配合的小环形凸台;所述外套为一圆环柱,外套的内径与下模和上模的直径相配合。
所述外套的内壁设置有拔模斜度。
本发明的有益效果是:上述的胎模锻制造齿轮坯用工装,结构简单、成本 低廉、使用方便。与目前所使用的模锻锤相比,胎模锻制造齿轮坯用工装既能制造小型齿轮坯,又能制造大型齿轮坯,而且不会增加生产成本,能保证齿轮坯的充型完整。
附图说明
图1是齿轮的结构示意图;
图2是本发明胎模锻制造齿轮坯用工装中下模的剖面图;
图3是本发明胎模锻制造齿轮坯用工装中上模的剖面图;
图4是本发明胎模锻制造齿轮坯用工装中外套的剖面图;
图5是本发明胎模锻制造齿轮坯用工装使用时预成型步骤的示意图;
图6是本发明胎模锻制造齿轮坯用工装使用时成型步骤的示意图;
图中:1、齿轮,11、内孔,12、大环形凹槽,13、小环形凹槽,2、下模,21、大环形凸台,3、上模,31、小环形凸台,4、外套,5、坯料。
具体实施方式
下面通过具体实施例对本发明胎模锻制造齿轮坯用工装作进一步的详细描述。
胎模锻制造齿轮坯用工装,包括圆柱形的下模2、圆柱形的上模3和外套4,如图2所示,所述下模2的下端面为平面,下模2的上端面上设置有与齿轮1的上端面相配和的大环形凸台21,大环形凸台21呈阶梯型;如图3所示,所述上模3的上端面为平面,上模3的下端面上设置有与齿轮1的下端面相配合的小环形凸台31;如图4所示,所述外套4为一圆环柱,外套4的内径与下模2和上模3的直径相配合,外套4的内壁设置有拔模斜度。
本发明的工作原理是:使用上述的工装采用胎模锻方法制造齿轮1时,包括如下步骤:1、预成型:如图5所示,将下模2放置在坯料5的下方,采用压机压坯料5,通过下模2中的大环形凸台21使坯料5的下端面形成大环形凹槽,实现坯料5的预成型;2、成型:如图6所示,将下模、预成型后的坯料、上模从上至下依次放置在外套4中,上模3和下模2的定位靠外套4完成,然后采 用压机压上模3,通过上模3中的小环形凸台31使坯料5的上端面形成小环形凹槽13,并且通过下模2中的大环形凸台21使坯料5的下端面所预成型的大环形凹槽12充型完整,实现坯料5的成型;3、开孔:在成型后的坯料5的中心按照要求开设齿轮的内孔11,制得成品。上述步骤中,由于所需制得的齿轮1的上端面中设置有与内孔11同心的大环形凹槽12,齿轮1的下端面中设置有与内孔11同心的小环形凹槽13,为了保证齿轮坯的大环形凹槽12能充型完整,采取倒置模锻的方式,即先实现齿轮坯上端面的预成型,再实现齿轮坯下端面的成型。其中采用外套4是为了保证所制得齿轮1的大环形凹槽12和小环形凹槽13能保证同心,并且实现齿轮1的外端面成型,外套4的内壁设置有拔模斜度是为了使脱模方便。
上述的实施例仅例示性说明本发明创造的原理及其功效,以及部分运用的实施例,而非用于限制本发明;应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。
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