[发明专利]TiO2光触媒亲水性自净化基材制造方法及光触媒涂层液无效
申请号: | 201110126793.8 | 申请日: | 2011-05-17 |
公开(公告)号: | CN102785413A | 公开(公告)日: | 2012-11-21 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 王东宁;李文发;田晓锋;李悦 |
主分类号: | B32B9/00 | 分类号: | B32B9/00;C09D1/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 210001 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | tio sub 触媒 亲水性 净化 基材 制造 方法 涂层 | ||
1.具备亲水性的复合材,该复合材的表面由TiO2、ZnO、SnO2、SrTiO3、WO3选出来的光催化剂半导体材料与含有无定形硅前驱体材料被覆的,并且前记的光催化剂被膜在光励起情况下相应呈亲水性为特征的复合材。
2.前记的基材表面上,具备光催化剂纳米半导体粒子均匀分布于聚硅氧烷硅原子形成膜之上,当光使光催化剂被励起之际,呈现亲水效应为特征的复合材。
3.要求1记载的复合材的制造方法,基材表面无定型的硅前驱体上均匀涂布结晶性二氧化钛粒子悬浊液的涂布工程,以及该前躯体加水分解的同时缩聚,形成由硅素结合的结晶二氧化钛粒子附着的被膜的制造方法。
4.要求1记载的复合材的制造方法,1)无定形硅的前驱体溶液中分散纳米锐钛矿型结晶TiO2粒子形成溶胶工程,2)将Si-Ti溶胶向基材涂布工程,3)该溶胶硅前驱体加水分解的同时,脱水聚合,结果在基材表面形成无定形硅素结合结晶型TiO2粒子的被膜工程,4)在该基材软化点以下加热具有涂膜得复合材,在基材表面形成永久性透明陶瓷薄膜工程,5)在室温或常温之下,该基材经刷涂、滚涂、或其它机械喷涂而成膜的复合材,在基材表面形成半永久性透明薄膜工程。
5.要求1及4所记载的复合材及制造方法,由于在基材与光催化剂半导体膜之间有硅的前驱体无机硅氧化层介入,防止钠离子(例如玻璃)或釉药(例如陶瓷)向成膜的结晶性二氧化钛层渗透而使二氧化钛粒子失活,为特征的复合材的制造方法。
6.基材表面前记的光反应性的纳米半导体粒子涂层具有在光励起的情况下,与空气中的H2O以及O2作用产生负氧离子O-2以及·OH游离基,对于与其表面接触的有机污秽物具有极强的分解能力,使其在被附着表面的附着力下降,在自然力,如雨水人工冲洗的作用下被清洗掉为特征的请求项目1记载的自洁性光催化剂复合材。
7.基材表面前记的光反应性的纳米半导体粒子涂层具有在光励起的情况下,与空气中的H2O以及O2作用产生负氧离子O-2以及·OH游离基,对于与其表面接触的有机污秽物具有极强的分解能力,使其在被附着表面的附着力下降,在自然力,如雨水人工冲洗的作用下被清洗掉,之后该表面仍然恢复光催化表面特征为特征的请求项目1记载的自洁性光催化剂复合材。
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