[发明专利]一种用于改性腈纶湿法原液着色体系的色浆及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201110127134.6 申请日: 2011-05-17
公开(公告)号: CN102230236A 公开(公告)日: 2011-11-02
发明(设计)人: 李全民;杨明远;吴学丙;郭林锋;鞠芳英;刘术佳;郭楠 申请(专利权)人: 上海瑞贝卡纤维材料科技有限公司
主分类号: D01F6/54 分类号: D01F6/54;D01F1/04;C09B67/20
代理公司: 上海三方专利事务所 31127 代理人: 吴干权
地址: 201615 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 改性 腈纶 湿法 原液 着色 体系 及其 制备 方法
【说明书】:

[技术领域]

本发明涉及腈纶染色领域,具体地说是一种用于改性腈纶湿法原液着色体系的色浆及其制备方法。

[背景技术]

目前,腈纶的染色方法分为原液着色和凝胶着色,凝胶着色是腈纶特有的一种着色法,但是这种方法为纺后湿丝束染色法,成本投入高,操作步骤多且复杂,容易产生工业污水,且用凝胶着色法染色会产生染色不均匀,容易产生色花,用该方法制备的纤维,耐晒耐候性能都不好。

专利CN1465758A,介绍了一种用于原液着色法生产有色腈纶的着色剂的制备方法,选取了NaSCN水溶液,但是具有添加量大、颜料浓度低以及与改性腈纶的相容性不佳等缺点,且用NaSCN水溶液作溶剂,只能用于NaSCN法的湿法纺丝体系。

[发明内容]

本发明的目的是针对上述不足,设计一种在纺丝前一次性混合加入颜料和各种功能性添加剂的DMF纺丝体系的原液着色方法,工艺简单,并且降低生产成本,提高色浆性能。

为了实现上述目的,本发明设计一种用于改性腈纶湿法原液着色体系的色浆,包括溶剂、颜料、分散剂和助剂,其特征在于按照重量百分比配比如下:

溶剂:52%-91%

颜料:8%-30%

分散剂:1%-8%

助剂:0.1%-10%。

所述溶剂采用二甲基甲酰胺或二甲基乙酰胺或二甲基亚砜。

所述颜料采用炭黑或有机颜料或酞菁类颜料。

所述分散剂采用聚氨酯型高分子分散剂、聚丙烯酸酯高分子分散剂和聚碳酸酯高分子分散剂中的一种或多种。

所述助剂采用防沉剂、抗菌剂、抗紫外剂和消光剂中的一种或多种。

所述防尘剂采用气相二氧化硅或改性氢化蓖麻油或改性聚脲的N一甲基吡咯烷酮溶液;所述抗菌剂采用载银磷酸盐、载银二氧化硅、载银沸石和氧化锌中的一种或多种;所述抗紫外剂采用无机系的金属氧化物;所述消光剂采用超细二氧化硅或滑石粉或二氧化钛。

一种用于改性腈纶湿法原液着色体系的色浆的制备方法,其特征在于包括以下步骤:

a、将溶剂和分散剂按照配比,注入高速混合机,搅拌速度800-1500rpm,搅拌时间20-40min;

b、加入所需的一种或几种颜料,搅拌时间30-60min,搅拌速度800-1500rpm;

c、加入所需的助剂,搅拌速度800-1500rpm,搅拌时间20-40min;

d、将搅拌好的混合料,通入砂磨机研磨,研磨时间为2-6小时,研磨好的色浆,经过滤然后密闭储存。

所述色浆的颜料颗粒直径1~5微米。

本发明与现有技术相比,在制造过程中具有添加量小、制备的色浆更稳定、颜料浓度高、改性腈纶的相容性更好、避免污水产生和适用范围广等优点,在具体应用中具有抗菌性、抗紫外线性能,应用于假发纤维时能赋予假发纤维抗菌防臭和抗紫外功能,使假发经久耐用、佩戴更舒适。

[具体实施方式]

本发明产品配方包括颜料、分散剂、助剂和溶剂,其中溶剂为二甲基甲酰胺(DMF)、二甲基乙酰胺(DMAC)、二甲基亚砜(DMSO)中的一种;颜料包括炭黑、各种有机颜料、酞菁类颜料等,颜料的浓度与颜料的种类、吸油量、所使用的分散剂、以及色浆对粘度的要求有关。通常炭黑的浓度为10-25wt%,有机颜料浓度8-30wt%,酞菁类颜料浓度10-20wt%。

分散剂采用高分子分散剂,包括聚氨酯型高分子分散剂、聚丙烯酸酯高分子分散剂、聚碳酸酯高分子分散剂,使用其中的一种或几种。所述高分子分散剂应能溶解于DMF(或DMAC、或DMSO),或能完全分散于DMF(或DMAC、或DMSO)。分散剂浓度为1-8wt%,与颜料的种类和比表面积有关。

助剂包括防沉剂、抗菌剂、抗紫外剂、消光剂等,根据制备色浆与纤维性能要求,可选择性的加入一种或几种。

所述的防沉剂包括气相二氧化硅、改性氢化蓖麻油、改性聚脲的N一甲基吡咯烷酮溶液等,优选气相二氧化硅,添加量为0.1-2%。

所述的抗菌剂是指载银磷酸盐、载银二氧化硅、载银沸石、氧化锌中的一种或多种,优选载银磷酸盐型抗菌剂。该抗菌粉体的平均粒径为100~900nm,添加量为0.5-3%。

所述的抗紫外剂是指无机系的金属氧化物,如氧化锌、二氧化钛、三氧化二铝、氧化镁、石墨、高岭土等,优选氧化锌,粉体平均粒径为200~500nm,添加量为0.1-2%。

所述的消光剂是指超细二氧化硅、滑石粉、二氧化钛,优选二氧化钛,粉体平均粒径100~500nm,添加量为0.1-3%。

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