[发明专利]光酸产生剂及含有该光酸产生剂的光致抗蚀剂

权利要求书

1.光酸产生剂化合物，所述化合物包括：

1)SO₃^-部分，

2)一个或多个氟化碳原子，

3)一个或多个直接或间接地被酮酸酯基团取代的氟化碳原子。

2.权利要求1所述的光酸产生剂化合物，其中所述化合物具有下式(Ⅰ)表示的结构：

RO(C＝O)(CXY)_p(CF₂)_n SO₃^-M⁺    (Ⅰ)

其中，R为氢原子或非氢取代基；

X和Y各自独立地表示氢原子或非氢取代基；

p为0或正整数；

n为正整数；

M⁺为反离子。

3.权利要求2所述的光酸产生剂化合物，其中所述化合物具有下式(Ⅱ)表示的结构：

RO(C＝O)(CH₂)_p(CF₂)_n SO₃^-M⁺    (Ⅱ)。

4.权利要求2或3所述的光酸产生剂化合物，其中p和n的和至少为4。

5.权利要求2-4任一项所述的光酸产生剂化合物，其中R为碳脂环或杂脂环基团。

6.权利要求2-5任一项所述的光酸产生剂化合物，其中M⁺是锍鎓或碘鎓阳离子。

7.权利要求1所述的光酸产生剂化合物，其中光酸产生剂化合物具有选自以下的结构：

8.权利要求1所述的光酸产生剂化合物，其中光酸产生剂化合物具有选自以下的结构：

9.一种光致抗蚀剂组合物，含有树脂组分和权利要求7-8任一项所述的光酸产生剂化合物。

10.一种形成光致抗蚀剂浮雕图案的方法，包括：

a)将权利要求9的光致抗蚀剂组合物的涂层施加于基底上；

b)使光致抗蚀剂涂层曝光于活化辐射，并显影曝光后的光致抗蚀剂涂层以提供浮雕图案。