[发明专利]光学装置和投影装置

权利要求书

1.一种光学装置，包括：

光合成棱镜，合成向多个入射面入射的入射光束、并输出合成的光束；

光调制单元，包括光学补偿元件和反射型光调制器件；和

固定构件，将反射型偏振元件和所述光调制单元固定至所述光合成棱镜，以对应于入射面中的一个，

其中，所述光调制单元包括：

遮光构件，遮挡光到达所述光调制单元，并将照射所述光学补偿元件和所述反射型光调制器件的光限制为通过开口部的光；和

隔热构件，与所述遮光构件和所述固定构件发生接触。

2.如权利要求1所述的光学装置，其中，

所述遮光构件包括：与所述隔热构件发生接触的隔热构件接触部、和具有所述开口的遮光部，并且

所述遮光部和所述隔热构件接触部具有预定高度的段差。

3.如权利要求2所述的光学装置，其中，所述段差的高度大于所述隔热构件的厚度。

4.如权利要求1所述的光学装置，其中，所述遮光构件能够在对通过所述开口部的光的限制量彼此不同的第一状态与第二状态之间变换。

5.如权利要求4所述的光学装置，其中，所述遮光构件基于用于显示的像素数量在第一状态与第二状态之间变换。

6.如权利要求4所述的光学装置，其中，所述第一状态和第二状态中的任一个将通过光限制为0。

7.如权利要求1所述的光学装置，其中，

所述光调制单元在邻近所述光学补偿元件的位置包括将照射所述反射型光调制器件的光限制为通过第二开口部的光的第二遮光构件，

所述第二开口部在所述反射型光调制器件的像素有效区域中形成预定的富余区域，从而限制照射所述反射型光调制器件的光，并且

所述开口部比起所述第二遮光构件具有较小的富余区域，并限制照射所述反射型光调制器件的光。

8.一种投影装置，包括：

光源；

光学装置，根据波长带域分离从所述光源射出的光束以用于调制、并将调制后的光束合成后射出；和

投射输出从所述光学装置射出的光束的投影工具，

其中，所述光学装置包括：

光合成棱镜，合成向多个入射面入射的入射光束、并输出合成的光束；

光调制单元，具有光学补偿元件和反射型光调制器件；和

固定构件，将反射型偏振元件和所述光调制单元固定至所述光合成棱镜，以对应于入射面中的一个，并且

所述光调制单元包括：

遮光构件，遮挡光到达所述光调制单元，并将照射所述光学补偿元件和所述反射型光调制器件的光限制为通过开口部的光；和

隔热构件，与所述遮光构件和所述固定构件发生接触。