[发明专利]液晶显示元件、正型放射线敏感性组合物、液晶显示元件用层间绝缘膜及其形成方法有效
申请号: | 201110128903.4 | 申请日: | 2011-05-11 |
公开(公告)号: | CN102243386A | 公开(公告)日: | 2011-11-16 |
发明(设计)人: | 一户大吾;中山美加 | 申请(专利权)人: | JSR株式会社 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;G03F7/00;G03F7/039 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所 11216 | 代理人: | 刘激扬 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶显示 元件 放射线 敏感性 组合 用层间 绝缘 及其 形成 方法 | ||
1.一种液晶显示元件,其具备相对配置的两片基板、层积于至少一片该基板的内表面侧的层间绝缘膜、以及设置于上述基板之间并由聚合性液晶组合物形成的液晶层,构成上述层间绝缘膜的树脂具有下述式(1)表示的聚合物的交联部分,
式(1)中,R0为下述式(1-1)~(1-6)中任一式表示的基团,
2.权利要求1中所述的液晶显示元件,上述层间绝缘膜是使用正型放射线敏感性组合物形成的,该正型放射线敏感性组合物含有:
[A]在同一或不同的聚合物分子中具有含下述式(2)表示的基团的结构单元和含环氧基的结构单元的聚合物、
[B]光酸产生体、及
[C]有机溶剂,
式(2)中,R1及R2各自独立地为氢原子、烷基、环烷基或芳基,其中,上述烷基、环烷基或芳基的一部分或全部氢原子可以被取代,另外,R1及R2不同时为氢原子,R3为烷基、环烷基、芳烷基、芳基或-M(R3m)3表示的基团,上述M为Si、Ge或Sn,R3m为烷基,其中,这些基团的一部分或全部氢原子可以被取代,另外,R1和R3也可以结合而形成环状醚。
3.权利要求1或2中所述的液晶显示元件,上述聚合性液晶组合物具有光聚合性或热聚合性。
4.一种正型放射线敏感性组合物,其用于形成液晶显示元件的层间绝缘膜,该液晶显示元件具备相对配置的两片基板、层积于至少一片该基板的内表面侧的层间绝缘膜、以及设置于上述基板之间并由聚合性液晶组合物形成的液晶层,并且该正型放射线敏感性组合物含有:
[A]在同一或不同的聚合物分子中具有含下述式(2)表示的基团的结构单元和含环氧基的结构单元的聚合物、
[B]光酸产生体、及
[C]有机溶剂,
式(2)中,R1及R2各自独立地为氢原子、烷基、环烷基或芳基,其中,上述烷基、环烷基或芳基的一部分或全部氢原子可以被取代,另外,R1及R2不同时为氢原子,R3为烷基、环烷基、芳烷基、芳基或-M(R3m)3表示的基团,上述M为Si、Ge或Sn,R3m为烷基,其中,这些基团的一部分或全部氢原子可以被取代,另外,R1和R3也可以结合而形成环状醚。
5.权利要求4中所述的正型放射线敏感性组合物,其中还含有[D]表面活性剂,该[D]表面活性剂为硅树脂类表面活性剂。
6.液晶显示元件用层间绝缘膜的形成方法,其具有
(1)在基板上形成权利要求4或权利要求5所述的正型放射线敏感性组合物的涂膜的工序、
(2)对工序(1)中形成的涂膜的至少一部分照射放射线的工序、
(3)使工序(2)中被照射了放射线的涂膜显影的工序、及
(4)对工序(3)中被显影的涂膜进行加热的工序。
7.使用权利要求4或权利要求5中所述的正型放射线敏感性组合物形成的液晶显示元件用层间绝缘膜。
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