[发明专利]液晶显示元件、正型放射线敏感性组合物、液晶显示元件用层间绝缘膜及其形成方法有效

专利信息
申请号: 201110128903.4 申请日: 2011-05-11
公开(公告)号: CN102243386A 公开(公告)日: 2011-11-16
发明(设计)人: 一户大吾;中山美加 申请(专利权)人: JSR株式会社
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;G03F7/00;G03F7/039
代理公司: 北京三幸商标专利事务所 11216 代理人: 刘激扬
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 液晶显示 元件 放射线 敏感性 组合 用层间 绝缘 及其 形成 方法
【权利要求书】:

1.一种液晶显示元件,其具备相对配置的两片基板、层积于至少一片该基板的内表面侧的层间绝缘膜、以及设置于上述基板之间并由聚合性液晶组合物形成的液晶层,构成上述层间绝缘膜的树脂具有下述式(1)表示的聚合物的交联部分,

式(1)中,R0为下述式(1-1)~(1-6)中任一式表示的基团,

2.权利要求1中所述的液晶显示元件,上述层间绝缘膜是使用正型放射线敏感性组合物形成的,该正型放射线敏感性组合物含有:

[A]在同一或不同的聚合物分子中具有含下述式(2)表示的基团的结构单元和含环氧基的结构单元的聚合物、

[B]光酸产生体、及

[C]有机溶剂,

式(2)中,R1及R2各自独立地为氢原子、烷基、环烷基或芳基,其中,上述烷基、环烷基或芳基的一部分或全部氢原子可以被取代,另外,R1及R2不同时为氢原子,R3为烷基、环烷基、芳烷基、芳基或-M(R3m)3表示的基团,上述M为Si、Ge或Sn,R3m为烷基,其中,这些基团的一部分或全部氢原子可以被取代,另外,R1和R3也可以结合而形成环状醚。

3.权利要求1或2中所述的液晶显示元件,上述聚合性液晶组合物具有光聚合性或热聚合性。

4.一种正型放射线敏感性组合物,其用于形成液晶显示元件的层间绝缘膜,该液晶显示元件具备相对配置的两片基板、层积于至少一片该基板的内表面侧的层间绝缘膜、以及设置于上述基板之间并由聚合性液晶组合物形成的液晶层,并且该正型放射线敏感性组合物含有:

[A]在同一或不同的聚合物分子中具有含下述式(2)表示的基团的结构单元和含环氧基的结构单元的聚合物、

[B]光酸产生体、及

[C]有机溶剂,

式(2)中,R1及R2各自独立地为氢原子、烷基、环烷基或芳基,其中,上述烷基、环烷基或芳基的一部分或全部氢原子可以被取代,另外,R1及R2不同时为氢原子,R3为烷基、环烷基、芳烷基、芳基或-M(R3m)3表示的基团,上述M为Si、Ge或Sn,R3m为烷基,其中,这些基团的一部分或全部氢原子可以被取代,另外,R1和R3也可以结合而形成环状醚。

5.权利要求4中所述的正型放射线敏感性组合物,其中还含有[D]表面活性剂,该[D]表面活性剂为硅树脂类表面活性剂。

6.液晶显示元件用层间绝缘膜的形成方法,其具有

(1)在基板上形成权利要求4或权利要求5所述的正型放射线敏感性组合物的涂膜的工序、

(2)对工序(1)中形成的涂膜的至少一部分照射放射线的工序、

(3)使工序(2)中被照射了放射线的涂膜显影的工序、及

(4)对工序(3)中被显影的涂膜进行加热的工序。

7.使用权利要求4或权利要求5中所述的正型放射线敏感性组合物形成的液晶显示元件用层间绝缘膜。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于JSR株式会社,未经JSR株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110128903.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top