[发明专利]彩膜基板的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示技术，尤其涉及一种彩膜基板的制造方法。

背景技术

液晶显示器是目前常用的平板显示器，其中薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，简称TFT-LCD)是液晶显示器中的主流产品。

彩膜基板是液晶显示器的重要部件。图1为现有技术中彩膜基板的结构示意图，如图1所示，彩膜基板典型的结构包括：衬底基板1和形成于衬底基板1上的黑矩阵图形2、红色光阻图形3、绿色光阻图形4和蓝色光阻图形5。形成该彩膜基板的制造流程包括：通过构图工艺在衬底基板1上形成黑矩阵图形2，并在形成黑矩阵图形2的衬底基板1上依次形成红色光阻图形3、绿色光阻图形4和蓝色光阻图形5。其中，构图工艺可包括掩膜版曝光和显影工艺。

现有技术中，在形成黑矩阵图形、红色光阻图形、绿色光阻图形和蓝色光阻图形过程中，形成每一种图形均需要一条单独的生产线来完成，而每一条生产线均需要单独配置曝光机、掩膜版、显影机等昂贵的生产设备，从而造成彩膜基板的生产成本过高。

发明内容

本发明提供一种彩膜基板的制造方法，用以降低彩膜基板的生产成本。

为实现上述目的，本发明提供了一种彩膜基板的制造方法，包括：

在衬底基板上形成彩色光阻图形和黑矩阵图形，所述彩色光阻图形和所述黑矩阵图形同步形成。

进一步地，所述在衬底基板上形成彩色光阻图形和黑矩阵图形包括：

在所述衬底基板上连续形成彩色光阻层和黑色光阻层；

通过构图工艺在所述衬底基板上形成所述彩色光阻图形和位于所述彩色光阻图形之上的黑矩阵图形。

进一步地，所述通过构图工艺在所述衬底基板上形成所述彩色光阻图形和位于所述彩色光阻图形之上的黑矩阵图形包括：

采用掩膜版对所述彩色光阻层和所述黑色光阻层进行曝光，使所述彩色光阻层和所述黑色光阻层形成完全曝光区域、部分曝光区域和未曝光区域，所述未曝光区域对应于所述彩色光阻图形的边缘位置和位于所述彩色光阻图形的边缘位置之上的黑矩阵图形，所述部分曝光区域对应于所述彩色光阻图形的中间位置，所述完全曝光区域对应于所述彩色光阻图形之外的区域；

通过显影工艺去除完全曝光区域和部分曝光区域中已曝光的光阻层，形成所述彩色光阻图形和位于所述彩色光阻图形之上的黑矩阵图形。

进一步地，所述彩色光阻层的材料和所述黑色光阻层的材料均为正性光阻。

进一步地，所述掩膜版设置于所述衬底基板正面一侧的上方。

进一步地，所述通过构图工艺在所述衬底基板上形成所述彩色光阻图形和位于所述彩色光阻图形之上的黑矩阵图形包括：

采用掩膜版对所述彩色光阻层和所述黑色光阻层进行曝光，使所述彩色光阻层和所述黑色光阻层形成完全曝光区域、部分曝光区域和未曝光区域，所述完全曝光区域对应于所述彩色光阻图形的边缘位置和位于所述彩色光阻图形的边缘位置之上的黑矩阵图形，所述部分曝光区域对应于所述彩色光阻图形的中间位置，所述未曝光区域对应于所述彩色光阻图形之外的区域；

通过显影工艺去除未曝光区域和部分曝光区域中未曝光的光阻层，形成所述彩色光阻图形和所述黑矩阵图形。

进一步地，所述彩色光阻层的材料和所述黑色光阻层的材料均为负性光阻。

进一步地，所述掩膜版设置于所述衬底基板背面一侧的上方。

进一步地，所述方法还包括：

对所述彩色光阻图形和位于所述彩色光阻图形之上的黑矩阵图形进行固化处理。

进一步地，所述彩色光阻图形包括红色光阻图形、绿色光阻图形、蓝色光阻图形至少之一。

本发明具有以下有益效果：

本发明提供的彩膜基板的制造方法中，在衬底基板上形成彩色光阻图形和黑矩阵图形，其中彩色光阻图形和黑矩阵图形同步形成，因此形成黑矩阵图形和彩色光阻图形的过程可共用生产线来完成，无需为黑矩阵图形单独配置昂贵的生产设备，从而降低了彩膜基板的生产成本。

附图说明

图1为现有技术中彩膜基板的结构示意图；

图2为本发明实施例二提供的一种彩膜基板的制造方法的流程图；

图3为本发明实施例三提供的一种彩膜基板的制造方法的流程图；

图4a为实施例三中形成红色光阻层和黑色光阻层的示意图；

图4b为实施例三中对红色光阻层和黑色光阻层进行曝光的示意图；