[发明专利]大环内酯类化合物、其制备方法、应用以及中间体

权利要求书

1.一类如式I所示的大环内酯类化合物；

其中，R为C₁～C₃烷基，或H；R^a为3位的表示单键或双键，其为双键时，R^b不存在，其为单键时，R^b为

R^c为取代或未取代的C₁～C₃烷基、取代或未取代的C₆～C₁₀芳基、或者取代或未取代的C₂～C₄烯基；其中，取代的C₆～C₁₀芳基中的取代基为硝基或卤素，芳基中的取代基为邻位、对位或间位；取代的C₁～C₃烷基中的取代基为C₆～C₁₀芳基，或者C₄～C₈杂芳基，其中杂原子为N、O或S；取代的C₂～C₄烯基中的取代基为C₆～C₁₀芳基；

X¹和X²独立的为卤素；

R^d和R^e独立的为C₁～C₃烷基；

n为1～3。

2.如权利要求1所述的大环内酯类化合物，其特征在于：当R^c为取代或未取代的C₁～C₃烷基时，所述的C₁～C₃烷基为甲基、乙基或异丙基。

3.如权利要求1所述的大环内酯类化合物，其特征在于：R^c中，所述的取代的C₆～C₁₀芳基中的取代基为卤素时，所述的卤素为Cl。

4.如权利要求1所述的大环内酯类化合物，其特征在于：R^c中，取代的C₁～C₃烷基中的取代基为C₄～C₈杂芳基时，所述的C₄～C₈杂芳基为2-噻吩基或3-吲哚基。

5.如权利要求1所述的大环内酯类化合物，其特征在于：当X¹和X²独立的为卤素时，所述的卤素为氟、氯、溴或碘。

6.如权利要求1所述的大环内酯类化合物，其特征在于：所述的X¹和X²的位置为2’位和5’位。

7.如权利要求1所述的大环内酯类化合物，其特征在于：所述的X¹和X²相同。

8.如权利要求1所述的大环内酯类化合物，其特征在于：当R^d和R^e独立的为C₁～C₃烷基时，所述的C₁～C₃烷基为乙基。

9.如权利要求1所述的大环内酯类化合物，其特征在于：所述的n为2。

10.如权利要求1～9任一项所述的大环内酯类化合物，其特征在于：所述的化合物I为如下任一结构：

其中，Ra和Rc的定义同权利要求1～9任一项中所述。

11.如权利要求1～9任一项所述的大环内酯类化合物，其特征在于：所述的化合物I为如下任一化合物：

Ia中，R^c为甲基、苯基、对硝基苯基、对氯苯基、苄基、苯乙基、苯乙烯基、噻吩-2-甲基、吲哚-3-甲基、吲哚-3-丙基；

Ib中，R^c为苯基、对硝基苯基、对氯苯基、苄基、苯乙基、苯乙烯基或异丙基；

Ic中，R^a为