[发明专利]投射物镜及投射曝光机

权利要求书

1.一种投射物镜，用于将布置在所述投射物镜的物平面中的物成像为位于所述投射物镜的像平面中的所述物的像，所述投射物镜具有：

多个透明光学元件以及支撑装置(HD)，所述支撑装置用于将所述光学元件支撑在沿着所述投射物镜的成像光束路径的预先规定的位置处，

其中，一个光学元件具有光学有用区域(OPT)以及边缘区域(ER)，所述光学有用区域(OPT)位于所述成像光束路径中，所述边缘区域(ER)位于所述光学有用区域之外，并分配给所述光学元件的支撑装置的至少一个支撑元件(HE)作用于所述边缘区域处在接触区(CZ)的区域，

其特征在于

所述光学元件的至少一个(L2-1、L2-2、L3-6)被分配光阑布置(SA1、SA2、SA3)，其具有布置在所述光学元件的直接上游的第一错误光光阑(SLS1)以及布置在所述光学元件的直接下游的第二错误光光阑(SLS2)，所述错误光光阑中的每个被如此设想，使得针对在所述成像光束路径之外的辐射，所述错误光光阑屏蔽所述边缘区域的至少一部分。

2.如权利要求1所述的投射物镜，其中一个错误光光阑具有限定光阑开口的内光阑边缘(SE)，并且所述光阑边缘与所述光学元件的所关联的光学表面之间的有限间隔在所述光阑边缘的整个周边上小于2mm，尤其是小于1mm，所述光阑边缘与所述光表面之间的最小间隔优选为1/10mm或更大。

3.如权利要求1或2所述的投射物镜，其中，一个错误光光阑优选地具有平外边缘部分(OP)，所述外边缘部分(OP)朝着所述光阑边缘连接内部部分(IP)，所述内部部分(IP)相对于所述光学元件倾斜，并限定所述光阑边缘(SE1)，所述内部部分优选是圆锥形。

4.如前述权利要求中的任一项所述的投射物镜，其中，所述错误光光阑被如此设想和布置，使得，在所述光学元件的情况中，针对所述成像光束之外的辐射，屏蔽所有接触区(CZ)以及分配给所述接触区的支撑元件(HE)。

5.如权利要求1、2或3所述的投射物镜，其中，所述错误光光阑(SLS1、SLS2)被如此设想和布置，使得对于所屏蔽的光学元件，针对所述成像光束边缘之外的辐射，屏蔽仅某些所述接触区以及仅某些分配给所述接触区的支撑元件。

6.如前述权利要求中的任一项所述的投射物镜，其中，所述错误光光阑具有圆光阑开口，在行进在所述成像光束路径的边缘处的成像光束的光线与所述内光阑边缘(SE)之间存在间隔，从而所述错误光光阑不限制所述成像光束路径，所分配的光学元件(L2-2)优选地位于所述投射物镜的光瞳中，或在其附近。

7.如前述权利要求中的任一项所述的投射物镜，其中，光阑布置的错误光光阑具有其形状适配于所述成像光束路径中的成像光束的横截面形状的光阑开口，从而所述光阑边缘与所述光束之间的间隔在所述光阑开口的至少80％的周边上，至多为2mm，尤其为1mm或更小，在整个光阑边缘上，在所述成像光束和所述光阑边缘之间保持优选至少1/10mm的横向最小间隔。

8.如前述权利要求中的任一项所述的投射物镜，其中，所述投射物镜具有至少一个凹反射镜(CM)，所述成像光束路径具有行进在所述物平面(OS)和所述凹反射镜之间的第一部分光束路径(RB1)，以及行进在所述凹反射镜和所述像平面(IS)之间的第二部分光束路径(RB2)，并且所分配的错误光光阑(SLS1、SLS2)布置在双横穿区域中，使得所述第一部分光束路径和所述第二部分光束路径引导穿过所述光学元件的有用区域以及穿过所述错误光光阑。

9.如前述权利要求中的任一项所述的投射物镜，其中，至少一个所述错误光光阑(SLS1、SLS2)被设想为在圆周方向上分段的错误光光阑，从而所述错误光光阑针对所述成像光束路径之外进行的辐射，仅屏蔽所述边缘区域(ER)的一部分，而所述边缘区域的其他部分被暴露于所述成像光束路径之外进行的辐射。

10.如前述权利要求中的任一项所述的投射物镜，其中，所述光学元件(L2-1)布置在所述光学有用区域内部具有非旋转对称辐射负载的区域中，并且，在圆周方向上分段的至少一个错误光光阑(SLS1、SLS2)适配于所述光学有用区域中的辐射负载的空间分布，从而所述光学元件的辐射负载的非对称性被在所述成像光束路径之外落到所述边缘区域上的辐射降低。