[发明专利]液体排出头有效
申请号: | 201110130120.X | 申请日: | 2011-05-19 |
公开(公告)号: | CN102248794A | 公开(公告)日: | 2011-11-23 |
发明(设计)人: | 坂井稔康;宇山刚矢 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | B41J2/14 | 分类号: | B41J2/14 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 欧阳帆 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液体 出头 | ||
1.一种液体排出头,包括:
流路形成部件,所述流路形成部件构成用于排出液体的排出口和与所述排出口连通的液体流路,并且包括多个喷嘴阵列,所述多个喷嘴阵列中的每一个喷嘴阵列由彼此空间地连通的所述排出口和所述液体流路形成;
头衬底,所述头衬底包括产生用于排出液体的能量的排出能量产生元件,并且在所述头衬底中针对每个喷嘴阵列形成用于向所述液体流路供应液体的供应口;以及
支撑部件,所述支撑部件包括用于向所述供应口供应液体的引入口,
其中所述头衬底在与上面布置有所述流路形成部件的表面相对的一侧包括凹陷部分,
其中所有供应口被贯通所述头衬底地形成在所述凹陷部分的底部中,以及
其中所述头衬底和所述支撑部件在所述凹陷部分的底部处被接合,使得所述供应口和所述引入口彼此连通。
2.根据权利要求1所述的液体排出头,其中所述供应口被沿着所述喷嘴阵列形成。
3.根据权利要求1所述的液体排出头,其中所述凹陷部分是通过各向异性刻蚀来形成的。
4.根据权利要求1所述的液体排出头,其中所述凹陷部分是通过结晶各向异性刻蚀来形成的。
5.根据权利要求4所述的液体排出头,其中所述头衬底是通过使用具有<100>面的晶体取向的硅衬底来形成的。
6.根据权利要求5所述的液体排出头,其中所述凹陷部分的底部是通过结晶各向异性刻蚀而形成的<100>面,并且该<100>面成为所述头衬底与所述支撑部件的接合表面。
7.根据权利要求1到6中任何一个所述的液体排出头,其中:
所述流路形成部件还构成第二液体在其中流动的第二液体流路;
其中用于向所述第二液体流路供应第二液体的第一液体通道以及用于从所述第二液体流路排出第二液体的第二液体通道被形成在所述头衬底中,以及
其中所述流路形成部件和所述头衬底被形成为使得所述第二液体流路、所述第一液体通道以及所述第二液体通道被形成为彼此连通,并且所述液体流路和所述供应口被形成为彼此连通。
8.根据权利要求7所述的液体排出头,其中所述第二液体流路包括通过其向所述第二液体流路供应第二液体的液体入口和通过其从所述第二液体流路排出第二液体的液体出口,以及
其中所述液体入口与所述第一液体通道连接,并且所述液体出口与所述第二液体通道连接。
9.根据权利要求7所述的液体排出头,其中由金属形成的热扩散层被形成在所述排出能量产生元件上,以致扩展到所述第二液体流路。
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