[发明专利]半导体装置及其驱动方法有效

专利信息
申请号: 201110130122.9 申请日: 2004-02-23
公开(公告)号: CN102360538A 公开(公告)日: 2012-02-22
发明(设计)人: 木村肇 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: G09G3/32 分类号: G09G3/32
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 俞华梁;朱海煜
地址: 日本神奈*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 装置 及其 驱动 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体装置,包括:

负载;

第一电流源;

第二电流源;

晶体管;

电容器;

电连接在所述负载与所述晶体管的源极和漏极中的一个之间的第一开关;

电连接在所述第一电流源与所述晶体管的源极和漏极中的所述一个之间的第二开关;以及

电连接在所述第二电流源与所述晶体管的源极和漏极中的所述一个之间的第三开关,

其中所述电容器电连接在所述晶体管的栅极与所述晶体管的源极和漏极中的所述一个之间。

2.一种半导体装置,包括:

负载;

第一电流源;

第二电流源;

电容器;

第一晶体管;

第二晶体管;

第三晶体管;以及

第四晶体管,

其中所述电容器电连接在所述第一晶体管的栅极与所述第一晶体管的源极和漏极中的一个之间,

其中所述第二晶体管的源极和漏极中的一个电连接到所述第一晶体管的源极和漏极中的所述一个,并且所述第二晶体管的源极和漏极中的另一个电连接到所述负载,

其中所述第三晶体管的源极和漏极中的一个电连接到所述第一晶体管的源极和漏极中的所述一个,并且所述第三晶体管的源极和漏极中的另一个电连接到所述第一电流源,以及

其中所述第四晶体管的源极和漏极中的一个电连接到所述第一晶体管的源极和漏极中的所述一个,并且所述第四晶体管的源极和漏极中的另一个电连接到所述负载。

3.一种半导体装置,包括:

负载;

第一电流源;

第二电流源;

第一晶体管;

第二晶体管;

电容器;

电连接在所述负载与所述第一晶体管的源极和漏极中的一个之间的第一开关;

电连接在所述第一电流源与所述第一晶体管的源极和漏极中的所述一个之间的第二开关;以及

电连接在所述第二电流源与所述第一晶体管的源极和漏极中的所述一个之间的第三开关,

其中所述电容器电连接到所述第一晶体管的栅极以及所述第一晶体管的源极和漏极中的所述一个。

4.根据权利要求3所述的半导体装置,其中所述第一晶体管和所述第二晶体管的沟道区的宽度彼此相等。

5.根据权利要求3所述的半导体装置,其中所述第一晶体管的沟道区的长度比所述第二晶体管的沟道区的长度长。

6.一种半导体装置,包括:

负载;

第一电流源;

第二电流源;

电容器;

第一晶体管;

第二晶体管;

第三晶体管;

第四晶体管;以及

第五晶体管,

其中所述电容器电连接在所述第一晶体管的栅极与所述第一晶体管的源极和漏极中的一个之间,

其中所述第二晶体管的源极和漏极中的一个电连接到所述第一晶体管的源极和漏极中的所述一个,并且所述第二晶体管的源极和漏极中的另一个电连接到所述负载,

其中所述第三晶体管的源极和漏极中的一个电连接到所述第一晶体管的源极和漏极中的所述一个,并且所述第三晶体管的源极和漏极中的另一个电连接到所述第一电流源,以及

其中所述第四晶体管的源极和漏极中的一个电连接到所述第一晶体管的源极和漏极中的所述一个,并且所述第四晶体管的源极和漏极中的另一个电连接到所述负载。

7.根据权利要求6所述的半导体装置,其中所述第一晶体管和所述第五晶体管的沟道区的宽度彼此相等。

8.根据权利要求6所述的半导体装置,其中所述第一晶体管的沟道区的长度比所述第五晶体管的沟道区的长度长。

9.根据权利要求1至8中的任一项所述的半导体装置,其中所述负载是显示元件。

10.根据权利要求1至8中的任一项所述的半导体装置,其中所述负载是信号线。

11.根据权利要求1至8中的任一项所述的半导体装置,其中所述第一电流源和所述第二电流源中的至少一个是恒流源。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社半导体能源研究所,未经株式会社半导体能源研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110130122.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top