[发明专利]利用LBL法合成介孔二氧化硅纳米管的方法无效

专利信息
申请号: 201110131623.9 申请日: 2011-05-20
公开(公告)号: CN102259871A 公开(公告)日: 2011-11-30
发明(设计)人: 邓小勇;白明坤;陈丹丹;胡炜;秦平;倪庆顺;吴明红 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: C01B33/12 分类号: C01B33/12;B82Y40/00
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人: 顾勇华
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 利用 lbl 合成 二氧化硅 纳米 方法
【说明书】:

技术领域

    本发明涉及利用LBL法包覆碳纳米管,并合成出介孔二氧化硅纳米管的方法。

背景技术

    介孔二氧化硅材料有许多独特的性质,比如说:介孔结构稳定,比表面积大,孔的大小、容量可以控制并且其独特的表面性质利于不同大小、形状和功能的分子定点传送和吸附,特别是对于介孔二氧化硅纳米管,不但具有普通一般介孔二氧化硅的所有优点,还有其独特的中空结构,不但可以提高功能分子的载带效率,还可以与表面介孔载带不同的分子,实现材料的多功能化。

    目前合成介孔二氧化硅纳米管的方法不多,操作繁琐,纳米管的直径和介孔大小不易控制。层层包裹(LBL)法是一种被认为形成介孔材料非常方便的方法。LBL法主要是以阴、阳离子聚合物之间的静电作用作驱动力,完成自组装过程。这种方法有以下优点:(1)过程简单,操作方便,不需要昂贵的测试仪器;(2)适用于多种不同的材料,比如聚合电解质、生物材料、无机纳米结构和分子自组装;(3)可以在多种材料上通过连续层数的包覆达到需求厚度的纳米级薄层。一种LBL的革新方法就是在胶体颗粒表面进行层层沉积,随后去除颗粒模板形成微孔胶囊。本发明的碳纳米管为模板,利用LBL方法合成了介孔二氧化硅,方法简单实用,易扩大生产。

发明内容

    本发明的目的是利用LBL法合成介孔二氧化硅包覆CNTs,进而制备出介孔二氧化硅纳米管。

    为达到上述目的,本发明采用如下技术方案。

    本发明一种利用LBL(layer-by-layer)法合成介孔二氧化硅纳米管的方法,其特征在于该法的具体步骤为:

a.       将50毫克用混酸(98%浓硫酸和63%浓硝酸,体积比为 3:1)处理过的碳纳米管(carbon nanotubes, CNTs)溶于30 毫升 1%聚苯乙烯磺酸(poly(styrenesulfonate),PSS) 溶液中,常温超声30 分钟,然后15000 转/分 离心30 分钟去除上清液;得到的沉淀物再次溶于30 毫升去离子水中,超声离心出去多余的PSS;

b.      把上述a步骤中得到的PSS包覆的CNTs溶于30 毫升 0.5% 十六烷基三甲基溴化铵(Cetyltrimethylammonium Bromide,CTAB)溶液中,超声15 分钟,离心得到的沉淀物经去离子水洗涤,用同样的方法使PSS/CTAB交替吸附,得到五层PSS/CTAB包裹的CNTs;

c.       把上述五层PSS/CTAB包裹的CNTs溶于10 毫升 0.03% CTAB溶液,开始搅拌,加入100 微升 0.1 摩尔/升 氢氧化钠溶液调节PH为10~11,然后分3次每隔30 分钟加入6 微升四乙氧基硅烷(TEOS),继续反应12小时;然后经离心分离得到沉淀物;

d.      将离心得到的沉淀物经乙醇洗涤3次后,放在60摄氏度真空烘箱中烘干;然后在550摄氏度煅烧3小时,得到白色粉末即为介孔二氧化硅纳米管。

 

本发明的有关机理

    本发明的机理是:PSS是阴离子表面活性剂,CTAB是阳离子表面活性剂,碳纳米管和PSS通过范德华力进行吸附结合,而PSS与CTAB是通过阴阳离子间正负电荷力的吸引而层层吸附。经过煅烧,PSS/CTAB与碳纳米管均被烧去消除,最后形成介孔二氧化硅纳米管。而碳纳米管是作为模板。

    采用LBL法对CNTs进行层层包覆,在改善了CNTs溶解性的同时,利用表面活性剂和TEOS水解生成的聚阴离子进行静电聚积沉淀作用形成介孔,并且合成出介孔二氧化硅薄层。本发明过程简单,操作方便,可以通过连续层数的包覆达到需求的纳米级薄层,可以进行规模生产。

附图说明

    图1是本发明实施例中样品a碳纳米管--二氧化硅复合物的TEM电镜照片。

    图2是本发明实施例中样品b介孔二氧化硅纳米管的TEM电镜照片。

具体实施方式

    现将本发明的具体实施例叙述于后。

实施例一:本实施例中的介孔二氧化硅纳米管的合成过程和步骤如下所述:

(1)   用电子天平称取50 毫克经混酸处理过的碳纳米管,溶于30 毫升 1% PSS 溶液中,常温超声30 分钟,然后15000 转/分 离心30 分钟去除上清液。得到的沉淀物再次用去离子水洗涤。

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