[发明专利]相位差板及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201110132478.6 申请日: 2011-05-20
公开(公告)号: CN102654595A 公开(公告)日: 2012-09-05
发明(设计)人: 叶訢;朱修剑 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G03F7/20
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 相位差 及其 制作方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及液晶显示领域,尤其涉及一种三维立体液晶显示用相位差板及其制作方法。

背景技术

目前,三维立体画面的显示主要是通过分别显示左眼视图和右眼视图来实现的,用户通过左眼和右眼感觉到不同的画面后获得深度感和立体感。用户在观看时需要配戴相应的眼镜,其中,眼镜分为液晶开关眼镜、偏振光眼镜和滤色眼镜等。以偏振光眼镜为例,偏振光眼镜的左右眼的偏振片的角度一般为正交结构,例如,左眼偏振片的偏振角度为45度,右眼偏振片的偏振角度为135度。因此,采用偏振光眼镜的立体显示器通过要根据该立体显示器的特性配有专门的偏振光眼镜。

上述左眼偏振片和右眼偏振片的偏振角度的实现,实际上是使显示器发出的光经过具有一定相位差的膜片,即相位差板。相位差板的制作一般是通过拉伸(Strech)或者镀膜(Coating)工艺形成的。相位差板分为多个配合显示器像素尺寸设计的横条或者竖条相间隔的区域,如图1所示,光线经过相间隔的横条或者竖条构成的区域时会产生不同的相位差值,具有其中一种相位差值的光线通过眼镜的选择进入人的左眼,另一种进入人的右眼。这种结构的缺点在于左眼与右眼观看到的图像具有一定的高度差(横条或者竖条的高度),产生两幅不同的影像之间的叠加,造成影像模糊,即串扰(crosstalk)现象,影响用户的观看效果。

发明内容

本发明的实施例所要解决的技术问题在于提供一种相位差板及其制作方法,为三维立体液晶显示用相位差板的结构及其制造提供了一种全新的思路,且本发明实施例的相位差板能够有效避免串扰现象的产生,大大提高了三维显示效果。

为解决上述技术问题,本发明的实施例采用如下技术方案:

一种相位差板,包括:第一基板和第二基板,所述第一基板的下方和所述第二基板的上方分别形成有第一透明电极层和第二透明电极层,所述第一透明电极层的下方和所述第二透明电极层的上方分别形成有配向膜,两层所述配向膜之间填充有固化的液晶层,所述液晶层分为交错排列的第一区域和第二区域,所述液晶层中第一区域和第二区域的液晶分子具有不同排列规律。

所述液晶层中掺有活性介晶单体。

所述液晶层的第一区域和第二区域的液晶分子使经过的光线产生不同的相位差值。

所述活性介晶单体的质量为所述液晶层质量的0.1%-2%。

所述第一区域和第二区域在水平方向和垂直方向上均交错排列。

所述第一区域和第二区域为在水平方向和垂直方向上均交错排列的长方形区域,每个长方形区域对应一个像素或像素组的面积。

所述第一区域和第二区域为在水平方向和垂直方向上均交错排列的“L”形区域,每个“L”形区域对应四个像素的面积。

一种相位差板的制作方法,包括:

在第一基板的下方和第二基板的上方分别形成第一透明电极层和第二透明电极层;

在第一透明电极层的下方和第二透明电极层的上方分别形成配向膜;

在两层所述配向膜之间填充液晶层,所述液晶层中掺有活性介晶单体;

对第一透明电极层和第二透明电极层施加第一电压,同时使用掩模板对所述液晶层进行第一次曝光;

对第一透明电极层和第二透明电极层施加第二电压,同时使用掩模板对所述液晶层进行第二次曝光,所述第二次曝光的区域为第一次曝光未进行曝光的区域。

在所述对第一透明电极层和第二透明电极层施加第二电压,同时使用掩模板对所述液晶层进行第二次曝光之后,还包括:对曝光之后的所述液晶层进行固化,形成具有交错排列的第一区域和第二区域的液晶层,所述液晶层中第一区域和第二区域的液晶分子具有不同排列规律。

所述第一次曝光的曝光量为0.02-0.5mW/cm2,所述第二次曝光的曝光量为10-15mW/cm2。

所述掩模板分为曝光区域和非曝光区域,所述曝光区域和非曝光区域在水平方向和垂直方向上均交错排列。

所述曝光区域和非曝光区域为在水平方向和垂直方向上均交错排列的长方形区域,每个长方形区域对应一个像素或像素组的面积。

所述曝光区域和非曝光区域为在水平方向和垂直方向上均交错排列的“L”形区域,每个“L”形区域对应四个像素的面积。

所述活性介晶单体的质量为所述液晶层质量的0.1%-2%。

所述第一电压为15-25V,所述第二电压为2-6V。

所述液晶层中的活性介晶单体在曝光时与液晶分子发生聚合反应,使液晶分子具有一定的排列规律。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110132478.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top