[发明专利]一种微孔阵列型光纤光栅的制备方法无效

专利信息
申请号: 201110133203.4 申请日: 2011-05-23
公开(公告)号: CN102162874A 公开(公告)日: 2011-08-24
发明(设计)人: 于永森;孙洪波;杨睿;陈超;陈歧岱 申请(专利权)人: 吉林大学
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02
代理公司: 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 代理人: 张景林;刘喜生
地址: 130012 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 一种 微孔 阵列 光纤 光栅 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种微孔阵列型光纤光栅的制备方法,其特征在于:首先利用功率为0.5W~1.5W的聚焦激光光束在光纤上制备一段损伤区从纤芯延伸到包层外沿的光纤光栅,然后根据激光损伤区选择性腐蚀的特点,使用体积浓度为1%~40%的氢氟酸在10℃~50℃温度下对这段光栅进行化学腐蚀,最后经过碱性溶液中和及去离子水超声清洗,从而得到光栅区从包层外沿延伸到纤芯的微孔阵列型光纤光栅结构。

2.如权利要求1所述的一种微孔阵列型光纤光栅的制备方法法,其特征在于:提供激光光束的激光光源是飞秒脉冲激光器、皮秒脉冲激光器、纳秒脉冲激光器或连续激光器。

3.如权利要求1所述的一种微孔阵列型光纤光栅的制备方法,其特征在于:光纤是纯石英光纤、掺杂石英光纤、蓝宝石光纤、氟化玻璃光纤或光子晶体光纤。

4.如权利要求1所述的一种微孔阵列型光纤光栅的制备方法,其特征在于:制备的光纤光栅是Bragg光纤光栅或长周期光纤光栅。

5.如权利要求1所述的一种微孔阵列型光纤光栅的制备方法,其特征在于:光纤光栅的制备方法是相位掩模法、振幅掩模法、逐点写入法或全息干涉法。

6.如权利要求1所述的一种微孔阵列型光纤光栅的制备方法,其特征在于:碱性溶液是碳酸钠溶液、氢氧化钠溶液、氢氧化钾溶液、碳酸氢钠溶液或碳酸氢钾溶液。

7.如权利要求1所述的一种微孔阵列型光纤光栅的制备方法,其特征在于:微孔的表面形貌是圆形、椭圆形或矩形。

8.如权利要求7所述的一种微孔阵列型光纤光栅的制备方法,其特征在于:微孔是相互独立的微通道。

9.如权利要求7所述的一种微孔阵列型光纤光栅的制备方法,其特征在于:微孔相互连接形成微缝。

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