[发明专利]一种光束整形器件

权利要求书

1.一种光束整形器件，包含有基底，其特征在于，在基底的一侧工作面上设有多个整形单元，在基底的x轴向和y轴向呈阵列式分布M×N个整形单元，M×N个整形单元之间紧密连接；每个整形单元包含P×Q个位相子单元，M、N、P和Q为正整数，且M和N不同时等于1，P和Q也不同时等于1，入射光束被M×N个整形单元个分割成多个子光束，每个子光束经P×Q个位相子单元调制生成调制后生成的远场光场的光强分布相同，且M×N个远场光场相互叠加，形成与子光束远场光场强度分布相同的输出光场。

2.根据权利要求1所述的光束整形器件，其特征在于，实现整形单元的步骤是：

步骤S1：根据远场光分布的要求，利用位相反演算法进行反推计算得到各个整形单元的位相分布数据；

步骤S2：根据各个整形单元的位相分布数据，采用刻蚀或压印在基底上构造位相子单元的位相分布，从而得到能构造出对入射光束强度分布无均匀性要求并变换得到光场外形轮廓为相同形状和光场强度分布相同的远场光的整形单元。

3.根据权利要求1所述的光束整形器件，其特征在于，所述P×Q个位相子单元中的相邻位相子单元之间的位相数据分布呈离散状态。

4.根据权利要求1所述的光束整形器件，其特征在于，整形单元的尺寸为毫米级、亚毫米级或微米级。

5.根据权利要求1所述的光束整形器件，其特征在于，所述整形单元的xoy面内的截面为矩形、圆形、菱形、梯形或其他不规则形状的结构。