[发明专利]利用可控光源的光场采样及模拟方法

权利要求书

1.利用可控光源的光场采样及模拟方法，其特征在于包括：

(1)布置可控光源装置，所述可控光源装置的位置、方向、光强度、照射表面可调；

(2)将可控光源装置与光场采集设备置于实验场景中，对光场采集设备进行标定；

(3)可控光源装置包括六维可控参数，控制每个参数进行线性变化，对环境光场进行密集采样，生成四维全光函数，建立光源属性与全光函数的映射关系，所述建立光源属性与全光函数的映射关系包括：首先将可控光源属性划分为三维位置参数、二维球面角度参数、一维光强度参数共六维参数，然后利用控制变量法分别建立每个参数的变化条件下全光函数的变化规律；

(4)建立光源属性与全光函数的映射关系后，利用全光函数空间和角度的连续性，恢复带有光源参数的高维全光函数；

(5)在光源发生变化的条件下，通过对已建立的高维全光函数进行重采样得到不同条件下环境光场信息。

2.如权利要求1所述的利用可控光源的光场采样及模拟方法，其特征在于，所述可控光源装置通过数控技术对光源参数进行实时数字化控制，包括光源三维位置的调整，不同照射角度光强度的调整。

3.如权利要求1所述的利用可控光源的光场采样及模拟方法，其特征在于，所述建立光源属性与全光函数的映射关系还包括：将可控光源装置抽象为具有六维参数的光强函数：三维位置x，y，z参数、二维球面角度θ，ρ参数，一维光强度I参数，采用控制变量法分别建立这六维参数与全光函数的映射关系。

4.如权利要求1所述的利用可控光源的光场采样及模拟方法，其特征在于，所述恢复带有光源参数的高维全光函数为利用全光函数空间和角度的连续性，将可控光源的六维参数加入采集到的四维全光函数中，利用离散的采样点拟合出十维全光函数。