[发明专利]一种层状复合材料及其制备方法有效
申请号: | 201110134979.8 | 申请日: | 2011-05-23 |
公开(公告)号: | CN102275352A | 公开(公告)日: | 2011-12-14 |
发明(设计)人: | 杨宗伦;刘伟廷;杨颖 | 申请(专利权)人: | 重庆国际复合材料有限公司 |
主分类号: | B32B15/01 | 分类号: | B32B15/01 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 逯长明 |
地址: | 400082 重庆市大渡口*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 层状 复合材料 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及复合材料技术领域,更具体地说,涉及一种层状复合材料及其制备方法。
背景技术
在铂族金属中,铂由于具有高的熔点、良好的抗腐蚀性、良好的成形性与可焊性等特性而被广泛应用于玻璃、玻璃纤维等领域中。但是,铂的价格昂贵,且在高温下使用时存在强度低、易产生蠕变变形和失效等问题,因此,如何提高铂材料高温持久强度和抗蠕变性能的同时降低成本,是当今研究的热点。
为了降低铂材料的成本,申请号为200610041466.1的中国专利文献公开了一种强化铂材料及其制造方法,该强化铂材料外层为纯铂,中间层为弥散强化铂;该强化铂材料得制备方法为:向Pt或Pt-Rh合金中加入适量的Zr进行真空熔炼,得到铸锭,将铸锭轧制成厚度小于0.5mm的薄板,对薄板进行内氧化处理使Zr氧化生成ZrO2,再对氧化后的薄板进行热静压复合,从而得到强化铂材料。但是,由于外层为纯铂,致使该材料的高温力学性能降低,并且对薄板进行内氧化处理的时间长达30小时,不利于贵金属的快速周转流通。
在铂族金属中,钯的冷加工性能、焊接性能、导电性能等与铂接近,且其价格与铂相比低三分之二,是铂的理想替代材料。《铂族金属回顾》(Platinum Metals Rev.)期刊文献报道了一种铂族金属复合材料,该复合材料外层为弥散强化Pt,中间层为纯Pd,该铂族金属复合材料的制备方法为:根据层状复合材料之间的比例,将钯锭封装入弥散强化铂材内,然后在900℃下进行退火处理使钯和铂之间进行扩散结合,最后热锻成1.5mm后的板材。该铂族金属复合材料中部分金属铂被金属钯所替代,降低了昂贵金属铂的用量,从而降低生产成本。但是,由于纯钯的熔点较铂低200℃左右,且钯的高温综合性能较差,因此,该复合材料的高温持久强度较差,从而影响材料的使用寿命。
发明内容
有鉴于此,本发明要解决的技术问题在于提供一种层状复合材料及其制备方法,该层状复合材料具有良好的高温持久强度。
本发明提供一种层状复合材料,包括依次相接触的第一弥散强化Pt基合金层、弥散强化Pd基合金层和第二弥散强化Pt基合金层。
优选的,所述第一弥散强化Pt基合金层由第一弥散强化Pt基合金形成,所述第一弥散强化Pt基合金的基材为Pt或Pt-Rh合金,所述第一弥散强化Pt基合金的弥散强化相为Zr的氧化物、Y的氧化物、La的氧化物和Er的氧化物中的一种或几种。
优选的,所述第一弥散强化Pt基合金的弥散强化相与所述第一弥散强化Pt基合金的质量比为(0.01~1.20)∶100。
优选的,所述弥散强化Pd基合金层由弥散强化Pd基合金形成,所述弥散强化Pd基合金的基材为Pd-Rh合金、Pd-Ir合金或Pd-Rh-Ir合金,所述弥散强化Pd基合金的弥散强化相为Zr的氧化物、Y的氧化物、La的氧化物和Er的氧化物中的一种或几种。
优选的,所述弥散强化Pd基合金的弥散强化相与所述弥散强化Pd基合金的质量比为(0.01~1.20)∶100。
优选的,所述第二弥散强化Pt基合金层由第二弥散强化Pt基合金形成,所述第二弥散强化Pt基合金的基材为Pt或Pt-Rh合金,所述第二弥散强化Pt基合金的弥散强化相为Zr的氧化物、Y的氧化物、La的氧化物和Er的氧化物中的一种或几种。
优选的,所述第二弥散强化Pt基合金的弥散强化相与所述第二弥散强化Pt基合金的质量比为(0.01~1.20)∶100。
优选的,所述第一弥散强化Pt基合金层、弥散强化Pd基合金层和第二弥散强化Pt基合金层的质量比为(1~4)∶(2~8)∶(1~4)。
本发明还提供一种层状复合材料的制备方法,包括以下步骤:
将第一贵金属与Zr、Y、La和Er中的一种或几种进行合金化、熔铸、粉末化处理,得到Pt基多元合金粉末,所述第一贵金属为Pt和/或Rh;
将第二贵金属与Zr、Y、La和Er中的一种或几种进行合金化、熔铸、粉末化处理,得到Pd基多元合金粉末,所述第二贵金属为Pd和/或第三贵金属,所述第三贵金属为Rh和/或Ir;
将所述Pd基多元合金粉末置于两层Pt基多元合金粉末之间进行内氧化-烧结处理、热压成型和锻打处理,得到层状复合材料。
优选的,所述内氧化-烧结处理的温度为400~1200℃,处理时间为4~10h。
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