[发明专利]新聚合物和光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种光致抗蚀剂组合物，所述组合物包括：

树脂，所述树脂具有(i)一个或多个共价连接于树脂上的光酸产生剂基团，和(ii)一个或多个光酸不稳定基团，

其中一个或多个光酸产生剂部分为一个或多个光酸不稳定基团的成分。

2.权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中光酸不稳定基团的光诱导反应使得一个或多个光酸产生剂基团从树脂上断裂。

3.权利要求1或2所述的光致抗蚀剂组合物，其中光酸产生剂基团为离子型。

4.权利要求1或2所述的光致抗蚀剂组合物，其中光酸产生剂基团为非离子型。

5.权利要求2所述的光致抗蚀剂组合物，其中断裂导致磺酸从树脂上断裂。

6.权利要求1-5任一项所述的光致抗蚀剂组合物，其中具有光酸产生剂基团的树脂还具有碳脂环、杂脂环、酸酐、内酯、萘基、羟基和/或丙烯酸酯基团。

7.权利要求1-6任一项所述的光致抗蚀剂组合物，其中具有光酸产生剂基团的树脂还具有丙烯酸2-甲基金刚烷基酯、丙烯酸羟基金刚烷基酯、甲基丙烯酸羟基金刚烷基酯、马来酸酐、降冰片烯、3，4-二氢吡喃、任选取代的苯基和/或任选取代的萘基的聚合单元。

8.一种制造电子设备的方法，所述方法包括：

将权利要求1-7任一项所述的光致抗蚀剂的涂层施加到基底上；

使光致抗蚀剂涂层曝光于图案化的活性辐射；和

显影曝光后的光致抗蚀剂涂层以提供光致抗蚀剂的浮雕图案。

9.权利要求8所述的方法，其中光致抗蚀剂组合物使用193nm图案化的活性辐射进行浸渍曝光。

10.一种树脂，所述树脂具有：

(i)一个或多个共价连接于树脂上的光酸产生剂基团，和(ii)一个或多个光酸不稳定基团，

其中一个或多个光酸产生剂基团为一个或多个光酸不稳定基团的成分。