[发明专利]一种LED像素单元器件结构及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201110137895.X 申请日: 2011-05-25
公开(公告)号: CN102214651A 公开(公告)日: 2011-10-12
发明(设计)人: 程蒙召;肖德元;张汝京 申请(专利权)人: 映瑞光电科技(上海)有限公司
主分类号: H01L25/075 分类号: H01L25/075;H01L33/48;H01L33/62;H01L33/50;H01L33/00
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 郑玮
地址: 201306 上海市浦东新区*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 led 像素 单元 器件 结构 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种LED像素单元器件结构,用于发射RGB三基色光,其特征在于,包括:

LED模块,所述LED模块包括三个LED芯片单元,所述三个LED芯片单元由同一衬底连接,但相互之间电学隔离;

导热基板,其上具有金属互联结构,所述LED模块倒置于所述金属互联结构上,所述三个LED芯片单元的电极与所述金属互联结构固定连接;

荧光粉,覆盖在所述倒置后的LED模块的衬底上,在所述荧光粉的配合作用下,所述LED芯片单元发出白光;

滤色膜,包括红色滤色膜、绿色滤色膜以及蓝色滤色膜,所述红色滤色膜、绿色滤色膜以及蓝色滤色膜覆盖在所述荧光粉上,且分别对应一个LED芯片单元;

反光杯,位于所述导热基板上,且所述LED模块位于所述反光杯内;

透明硅胶,位于所述反光杯内,将所述LED模块密封在所述反光杯内。

2.如权利要求1所述的LED像素单元器件结构,其特征在于,所述LED芯片单元为蓝光LED芯片单元。

3.如权利要求2所述的LED像素单元器件结构,其特征在于,所述荧光粉为钇铝石榴石荧光粉。

4.如权利要求2所述的LED像素单元器件结构,其特征在于,所述LED芯片单元包括:衬底,在所述衬底上依次生长的低温缓冲层、N型电子注入层、多量子阱有源层、电子阻挡层、P型空穴注入层以及P型电极金属全发射层,其中,所述P型电极金属全发射层上制备有P型电极,所述N型电子注入层上制备有N型电极。

5.如权利要求4所述的LED像素单元器件结构,其特征在于,所述P型电极及所述N型电极与所述金属互联结构固定连接。

6.如权利要求4所述的LED像素单元器件结构,其特征在于,所述衬底为蓝宝石衬底。

7.如权利要求4所述的LED像素单元器件结构,其特征在于,所述LED模块为氮化镓基LED模块,其中,所述低温缓冲层为GaN层,所述N型电子注入层为N型GaN层,所述电子阻挡层为P型AlGaN层,所述P型空穴注入层为P型GaN层。

8.如权利要求1所述的LED像素单元器件结构,其特征在于,所述各LED芯片单元之间设置有电隔离沟槽,各LED芯片单元之间通过所述电隔离沟槽实现电学隔离。

9.一种如权利要求1所述的LED像素单元器件结构的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

制备所述LED模块,其中,所述LED模块上覆盖有所述荧光粉,所述荧光粉上覆盖有所述滤色膜;

准备所述导热基板;

将所述LED模块倒置于所述导热基板上,所述三个LED芯片单元的电极与所述金属互联结构固定连接;

在所述导热基板上安装反光杯;以及

点胶,将透明硅胶注入至所述反光杯内。

10.如权利要求9所述的LED像素单元器件结构的制备方法,其特征在于,所述制备LED模块具体包括如下步骤:

提供衬底;

在所述衬底上依次生长低温缓冲层、N型电子注入层、多量子阱有源层、电子阻挡层、P型空穴注入层以及P型电极金属全发射层;

依次刻蚀所述P型电极金属全发射层、P型空穴注入层、电子阻挡层、多量子阱有源层、N型电子注入层以及低温缓冲层,形成电隔离沟槽;

依次刻蚀所述P型电极金属全发射层、P型空穴注入层、所述电子阻挡层以及所述多量子阱有源层,形成一台柱面,并露出所述N型电子注入层;

在露出的N型电子注入层上制备N型电极,并在所述P型电极金属全发射层上制备P型电极;

涂敷荧光粉,所述荧光粉覆盖所述衬底的底面;

安装滤色膜,所述滤色膜覆盖所述荧光粉;

划片,形成多个LED模块,其中每个LED模块包括3个LED芯片单元,各LED芯片单元之间通过所述电隔离沟槽实现电学隔离。

11.如权利要求10所述的LED像素单元器件结构的制备方法,其特征在于,所述LED芯片单元为蓝光LED芯片单元。

12.如权利要求10所述的LED像素单元器件结构的制备方法,其特征在于,所述荧光粉为钇铝石榴石荧光粉。

13.如权利要求10所述的LED像素单元器件结构的制备方法,其特征在于,所述衬底为蓝宝石衬底。

14.如权利要求10所述的LED像素单元器件结构的制备方法,其特征在于,所述LED模块为氮化镓基LED模块,其中,所述低温缓冲层为GaN层,所述N型电子注入层为N型GaN层,所述电子阻挡层为P型AlGaN层,所述P型空穴注入层为P型GaN层。

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