[发明专利]一种LED像素单元器件结构及其制备方法有效
申请号: | 201110137895.X | 申请日: | 2011-05-25 |
公开(公告)号: | CN102214651A | 公开(公告)日: | 2011-10-12 |
发明(设计)人: | 程蒙召;肖德元;张汝京 | 申请(专利权)人: | 映瑞光电科技(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L25/075 | 分类号: | H01L25/075;H01L33/48;H01L33/62;H01L33/50;H01L33/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
地址: | 201306 上海市浦东新区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 led 像素 单元 器件 结构 及其 制备 方法 | ||
1.一种LED像素单元器件结构,用于发射RGB三基色光,其特征在于,包括:
LED模块,所述LED模块包括三个LED芯片单元,所述三个LED芯片单元由同一衬底连接,但相互之间电学隔离;
导热基板,其上具有金属互联结构,所述LED模块倒置于所述金属互联结构上,所述三个LED芯片单元的电极与所述金属互联结构固定连接;
荧光粉,覆盖在所述倒置后的LED模块的衬底上,在所述荧光粉的配合作用下,所述LED芯片单元发出白光;
滤色膜,包括红色滤色膜、绿色滤色膜以及蓝色滤色膜,所述红色滤色膜、绿色滤色膜以及蓝色滤色膜覆盖在所述荧光粉上,且分别对应一个LED芯片单元;
反光杯,位于所述导热基板上,且所述LED模块位于所述反光杯内;
透明硅胶,位于所述反光杯内,将所述LED模块密封在所述反光杯内。
2.如权利要求1所述的LED像素单元器件结构,其特征在于,所述LED芯片单元为蓝光LED芯片单元。
3.如权利要求2所述的LED像素单元器件结构,其特征在于,所述荧光粉为钇铝石榴石荧光粉。
4.如权利要求2所述的LED像素单元器件结构,其特征在于,所述LED芯片单元包括:衬底,在所述衬底上依次生长的低温缓冲层、N型电子注入层、多量子阱有源层、电子阻挡层、P型空穴注入层以及P型电极金属全发射层,其中,所述P型电极金属全发射层上制备有P型电极,所述N型电子注入层上制备有N型电极。
5.如权利要求4所述的LED像素单元器件结构,其特征在于,所述P型电极及所述N型电极与所述金属互联结构固定连接。
6.如权利要求4所述的LED像素单元器件结构,其特征在于,所述衬底为蓝宝石衬底。
7.如权利要求4所述的LED像素单元器件结构,其特征在于,所述LED模块为氮化镓基LED模块,其中,所述低温缓冲层为GaN层,所述N型电子注入层为N型GaN层,所述电子阻挡层为P型AlGaN层,所述P型空穴注入层为P型GaN层。
8.如权利要求1所述的LED像素单元器件结构,其特征在于,所述各LED芯片单元之间设置有电隔离沟槽,各LED芯片单元之间通过所述电隔离沟槽实现电学隔离。
9.一种如权利要求1所述的LED像素单元器件结构的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
制备所述LED模块,其中,所述LED模块上覆盖有所述荧光粉,所述荧光粉上覆盖有所述滤色膜;
准备所述导热基板;
将所述LED模块倒置于所述导热基板上,所述三个LED芯片单元的电极与所述金属互联结构固定连接;
在所述导热基板上安装反光杯;以及
点胶,将透明硅胶注入至所述反光杯内。
10.如权利要求9所述的LED像素单元器件结构的制备方法,其特征在于,所述制备LED模块具体包括如下步骤:
提供衬底;
在所述衬底上依次生长低温缓冲层、N型电子注入层、多量子阱有源层、电子阻挡层、P型空穴注入层以及P型电极金属全发射层;
依次刻蚀所述P型电极金属全发射层、P型空穴注入层、电子阻挡层、多量子阱有源层、N型电子注入层以及低温缓冲层,形成电隔离沟槽;
依次刻蚀所述P型电极金属全发射层、P型空穴注入层、所述电子阻挡层以及所述多量子阱有源层,形成一台柱面,并露出所述N型电子注入层;
在露出的N型电子注入层上制备N型电极,并在所述P型电极金属全发射层上制备P型电极;
涂敷荧光粉,所述荧光粉覆盖所述衬底的底面;
安装滤色膜,所述滤色膜覆盖所述荧光粉;
划片,形成多个LED模块,其中每个LED模块包括3个LED芯片单元,各LED芯片单元之间通过所述电隔离沟槽实现电学隔离。
11.如权利要求10所述的LED像素单元器件结构的制备方法,其特征在于,所述LED芯片单元为蓝光LED芯片单元。
12.如权利要求10所述的LED像素单元器件结构的制备方法,其特征在于,所述荧光粉为钇铝石榴石荧光粉。
13.如权利要求10所述的LED像素单元器件结构的制备方法,其特征在于,所述衬底为蓝宝石衬底。
14.如权利要求10所述的LED像素单元器件结构的制备方法,其特征在于,所述LED模块为氮化镓基LED模块,其中,所述低温缓冲层为GaN层,所述N型电子注入层为N型GaN层,所述电子阻挡层为P型AlGaN层,所述P型空穴注入层为P型GaN层。
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