[发明专利]组合物与高分子有效
申请号: | 201110139011.4 | 申请日: | 2011-05-26 |
公开(公告)号: | CN102453287A | 公开(公告)日: | 2012-05-16 |
发明(设计)人: | 杨丰瑜;徐美玉;黄桂武;骆伯远 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | C08L25/18 | 分类号: | C08L25/18;C08K5/3492;C08K5/103;C08K5/07;C08K5/06;C08J3/24;H01G4/18;H01L51/10;H01L51/30 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 组合 高分子 | ||
【技术领域】
本发明涉及一种组合物与高分子,特别涉及用以形成交联高分子化合物的组合物与高分子。
【背景技术】
相比于无机薄膜晶体管(transistor),有机薄膜晶体管(OTFT)应用于大型显示器具有低制程温度及低成本的优势。因此近年来有许多研究致力于开发OTFT的相关材料及制程技术。目前的研究主要是使用氧化硅作为栅极介电层(gate dielectric layer)。而OTFT未来的发展趋势,材料方面势必是朝向全塑胶化为目标,如此一来才能使用如印刷等可大面积化的低成本制程。因此开发有机高分子材料的栅极介电层非常重要的。
【发明内容】
本发明的一种实施方式提出一种组合物。该组合物包括高分子与三聚氰胺衍生物。该高分子具有以下化学式:
其中R为氢基、卤化物(halide)、烷基、烷氧基、卤烷基或硝基。n为1~5的整数。x+y+z=1,x>0,y≥0,z≥0。卤化物基团即为含有卤素的官能基,包括但不限于卤素、卤烷基等。
三聚氰胺衍生物包括
其中R1为氢基、CqH2q+1或m、q独立地为1~10的整数,R2、R3与R4独立地为氢基、卤化物或C1~C54烷基。
本发明的另一实施方式提出一种高分子。该高分子具有以下化学式:
其中x+y=1,x>0,y≥0。
【附图说明】
图1显示比较例2、实施例3与实施例4的金属-绝缘体-金属(Metal-insulator-Metal;MIM)电容结构的电流-电压响应(I-V response)结果。
图2显示比较例22与实施例24的MIM电容结构的电流-电压响应结果。
图3显示MIM电容结构的电容-电压响应(C-V response)结果,该电容结构具有由实施例3的组合物形成的介电层。
图4显示MIM电容结构的电容-电压响应结果,该电容结构具有由比较例22的组合物形成的介电层。
图5显示具有从比较例14与实施例15的组合物所制得的栅极介电层的OTFT的电流-电压曲线图。
图6显示具有从比较例7与实施例23的组合物的栅极介电层的OTFT的电流-电压曲线图。
【具体实施方式】
本发明的一实施方式提供一种高分子化合物。该高分子化合物系通过组合物形成。该组合物系包括高分子与三聚氰胺衍生物。该高分子可具有以下化学式:
其中R可为氢基、卤化物(halide)(即含有卤素的官能基)、烷基、烷氧基、卤烷基或硝基。n可为1~5的整数。x+y+z=1,x>0,y≥0,z≥0。三聚氰胺衍生物可包括
R1可为氢基、CqH2q+1或m、q独立地为1~10的整数。
R2、R3与R4可独立地为氢基、卤化物或C1~C54烷基。
组合物可还包括交联剂。交联剂可包括
R2、R3与R4可独立地为氢基、卤化物或C1~C54烷基。R5可为氢基或
于一些实施例中,高分子可具有以下化学式:
其中x+y=1,x>0,y≥0。
组合物还可包括添加剂。添加剂可包括硅氧烷、二苯甲酮(Benzophenone)、2-羟基-2-甲基苯丙酮(2-Hydroxy-2-methylpropiophenone)、偶氮二异丁腈(Azobisisobutyronitrile)或上述的组合。
本发明一实施方式的交联高分子化合物为具有优异性质的介电材料。交联高分子化合物具有良好的大气稳定性,即使放置在大气环境下超过一个星期,交联高分子化合物的介电常数也不会有太大的改变。此外,漏电流密度小且电绝缘效果佳。应用在有机薄膜晶体管中作为栅极介电层,或是应用在电容结构的介电层,元件会具有良好的效能。
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