[发明专利]激光混强场装置无效
申请号: | 201110139168.7 | 申请日: | 2011-05-27 |
公开(公告)号: | CN102251078A | 公开(公告)日: | 2011-11-23 |
发明(设计)人: | 吴九汇;胡志平;张铁山 | 申请(专利权)人: | 西安交通大学 |
主分类号: | C21D1/09 | 分类号: | C21D1/09;C22F3/00 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 陆万寿 |
地址: | 710049 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 激光 混强场 装置 | ||
1.激光混强场装置,其特征在于:包括内腔为球形结构的壳体(1),在壳体(1)的球形内腔中镶嵌有若干个半导体激光器阵列(2、7、8),除半导体激光器陈列(2)出射口处的壳体内壁上设置有一层耐高温全反射层(3),在各半导体激光器阵列的出射口均设置有挡板(4、6、9),壳体(1)的一侧开设有一面积为S1的开口(5),该开口(5)上安装有内壁设置有耐高温全反射层的封闭门。
2.根据权利要求1所述的激光混强场装置,其特征在于:所述的开口(5)的面积S1/S≤0.0025,其中S为壳体的内表面面积。
3.根据权利要求1所述的激光混强场装置,其特征在于:所述的半导体激光器阵列(2、7、8)的出射光偏离开口(5)。
4.根据权利要求1所述的激光混强场装置,其特征在于:所述的挡板(4、6、9)为石英玻璃板。
5.根据权利要求1所述的激光混强场装置,其特征在于:所述的壳体(1)的外侧设置有水冷却装置。
6.根据权利要求1所述的激光混强场装置,其特征在于:所述的耐高温全反射层采用三维光子晶体结构材料。
7.根据权利要求6所述的激光混强场装置,其特征在于:所述的三维光子晶体结构材料通过反蛋白石(Inverted Opal)光子晶体合成的方法制得,按体积比填充材料占24%,空气占76%,所述的填充材料采用折射率较大的耐高温材料砷化镓、二氧化钛或硫化镉。
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