[发明专利]位移装置、光刻设备以及定位方法有效

专利信息
申请号: 201110139210.5 申请日: 2011-05-23
公开(公告)号: CN102269935A 公开(公告)日: 2011-12-07
发明(设计)人: J·H·A·范德瑞吉德特;J·J·奥腾斯;M·M·P·A·沃梅尤恩;E·J·A·曼德尔斯 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴敬莲
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 位移 装置 光刻 设备 以及 定位 方法
【权利要求书】:

1.一种位移装置,包括:

第一部分和第二部分,其中第二部分在第一方向上相对于第一部分是可位移的,第二方向基本上垂直于第一方向,并且第三方向垂直于第一和第二方向,第一部分包括载体,所述载体基本上平行于第一和第二方向延伸并且磁体系统依照图案布置在载体上,其中磁体系统包括具有基本上垂直于载体且方向朝向第二部分的磁化方向的第一磁体和具有基本上垂直于载体且方向远离开第二部分的磁化方向的第二磁体,第一和第二磁体依照行和列基本上彼此垂直且与第一和第二方向中的一个方向成大致45°角的图案布置,使得第一磁体和第二磁体交替地布置在每一行和每一列中,

其中第二部分包括具有线圈组件单元组的电线圈系统,每个线圈组件单元具有布置在磁体系统的磁场内并且在使用时由多相系统供电的电流导体,

其中线圈组件单元组包括

具有基本上平行于第二方向取向的电流导体的至少三个第一线圈组件单元;

具有基本上平行于第一方向取向的电流导体的至少两个第二线圈组件单元,

和其中位移装置包括控制装置,所述控制装置配置成通过用多相系统驱动线圈组件单元来控制第二部分相对于第一部分的位置,其中,当第二部分主要沿第二方向移动时,控制单元配置成通过仅使用第一线圈组件单元沿第三方向将第二部分悬浮离开第一部分。

2.根据权利要求1所述的位移装置,其中,两个第一线圈组件单元和两个第二线圈组件单元布置成允许通过控制装置相对于第一部分对第二部分进行6个自由度的控制,并且其中剩余的第一和第二线圈组件单元布置成将由所有第一和第二线圈组件单元确定的力心设置在想要的位置。

3.一种位移装置,包括:

第一部分和第二部分,所述第一部分和第二部分在第一方向上和基本上垂直于第一方向的第二方向上相对于彼此是可位移的,所述第一部分包括载体,所述载体基本上平行于第一和第二方向延伸,并且磁体系统依照图案布置在载体上,其中磁体系统包括具有基本上垂直于载体且方向朝向第二部分的磁化方向的第一磁体和具有基本上垂直于载体且方向远离开第二部分的磁化方向的第二磁体,第一和第二磁体依照行和列基本上彼此垂直且与第一和第二方向中的一个方向成大约45°角的图案布置,使得第一磁体和第二磁体交替地布置在每一行和每一列中,

其中第二部分包括具有线圈组件单元组的电线圈系统,每个线圈组件单元具有布置在磁体系统的磁场内并且在使用时由多相系统供电的电流导体,

其中线圈组件单元组包括

具有基本上平行于第二方向取向的电流导体的第一主线圈组件单元;

具有基本上平行于第一方向取向的电流导体的第二主线圈组件单元,

其中第一和第二主线圈组件单元限定第一和第二主线圈组件单元所处的在第一方向上的最小第一范围,并且其中第一和第二主线圈组件单元还限定第一和第二主线圈组件单元所处的在第二方向上的最小第二范围,

其中线圈组件单元组还包括具有基本上平行于第二方向取向的电流导体的第一次级线圈组件单元,其中第一次级线圈组件单元位于第二范围内且在第一范围外,第二范围足够大以使得第一次级线圈组件单元能够被放置在第二范围内且在沿第二方向看的多个不同位置处,以在第二方向上定位由所有线圈组件单元确定的力心。

4.根据权利要求3所述的位移装置,其中,确定力心在第一方向上的位置的第二主线圈组件单元被定位成使得力心在第一方向上的位置与包括由第二部分支撑的部分的第二部分在第一方向上的重心位置对齐。

5.一种位移装置,包括:

第一部分和第二部分,所述第一部分和第二部分相对于彼此在六个自由度上是可位移的,第一部分包括载体,所述载体限定其上布置磁体以形成磁场的平面,

其中第二部分包括初级线圈系统,所述初级线圈系统布置成与磁场协同操作以相对于第一部分以六个自由度位移第二部分,

其中第二部分还包括次级线圈系统,所述次级线圈系统布置成与磁场协同操作以在第一部分和第二部分之间在至少一个自由度上提供驱动力,使得由所有线圈系统提供的力心在使用时基本上位于沿相对于彼此正交且基本上平行于载体限定的平面的第一和第二方向看的重心处。

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