[发明专利]一种原位反应制备钇硅氧氮陶瓷材料的方法有效
申请号: | 201110140006.5 | 申请日: | 2011-05-27 |
公开(公告)号: | CN102795856A | 公开(公告)日: | 2012-11-28 |
发明(设计)人: | 周延春;孙鲁超;王京阳 | 申请(专利权)人: | 中国科学院金属研究所 |
主分类号: | C04B35/505 | 分类号: | C04B35/505;C04B35/622 |
代理公司: | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人: | 张志伟 |
地址: | 110016 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 原位 反应 制备 钇硅氧氮 陶瓷材料 方法 | ||
技术领域
本发明属于高温功能/结构陶瓷领域,更具体地说,是涉及一种原位反应制备钇硅氧氮(Y4Si2O7N2)陶瓷材料的方法。
背景技术
Y4Si2O7N2陶瓷材料是一种熔点高达1980℃新型难熔陶瓷材料,具有高硬度、高模量、良好的介电性能,因此可以作为一种新型的高温结构/功能一体化陶瓷。由于在高温时该陶瓷具有很低的热导率、较低的密度和较高的抗弯强度,因此Y4Si2O7N2也可以作为潜在的隔热材料,在航空、航天、核工业和超高温结构件等高新技术领域有广泛的应用前景。但是由于Y4Si2O7N2在Y2O3-SiO2-Si3N4体系中有较多的竞争相,因而难以获得纯相的Y4Si2O7N2陶瓷。目前报道采的制备方法为将Y2O3、SiO2和Si3N4粉末在氮气气氛、1650℃保温2个小时进行烧结(Journal of the European Ceramic Society,16,1996,553-560)。其缺点是烧结温度高,耗时长,且获得材料中含有Y2O3杂质相。
发明内容
本发明就是针对上述问题,提供了一种原位反应制备钇硅氧氮陶瓷材料的方法。其工艺简单、温度低、耗时短,可以获得高纯度的钇硅氧氮(Y4Si2O7N2)陶瓷材料。
为了实现本发明的上述目的,本发明采用如下技术方案:
以氧化钇粉(Y2O3)、氧化硅粉(SiO2)和氮化硅粉(Si3N4)混合而成的固体粉末混合物作为原料,原料粉的摩尔比为Y2O3∶SiO2∶Si3N4=4∶(0.8-1.2)∶(0.8-1.2),采用原位反应法合成单相的Y4Si2O7N2材料。
所述的Y4Si2O7N2材料为粉末状(粉末粒度为100-300目)或块体。
具体步骤:
(1)球磨处理:将原料粉末混合物经球磨机球磨8~24小时,球磨介质与粉末分离后,将粉末置于烘箱中,在50℃~70℃下烘干,得到干燥粉末;
(2)原位反应:
将步骤1)得到的干燥粉末于5-20MPa的压力常温下冷压成饼状,冷压时间5-30分钟,然后装入石墨模具中,在通有氮气的高温热压炉中烧结,高温热压炉升温速率为2~50℃/min,到达1200~1650℃时保温反应0.5~3小时,可以得到单相的粉体钇硅氧氮陶瓷材料;
在烧结的同时进行热压,热压压力为20-40MPa,得到块体钇硅氧氮Y4Si2O7N2陶瓷材料。
原料氧化钇粉的纯度度≥99.99wt.%,氧化硅纯度≥wt.%,氮化硅粉纯度≥95wt.%。
步骤1)中球磨处理采用的是氮化硅球于乙醇中进行常规湿磨。
球磨介质与原料粉末的分离采用过筛法,筛子的孔径为100目。
步骤2)中高温热压炉的升温速率优选5-30℃/min。
步骤2)中热压压力优选30MPa。
步骤2)中所述的氮气纯度≥99.5%。
本发明具有如下优点:
1.本发明采用的原料成本低廉,为氧化钇粉、氧化硅粉和氮化硅粉。
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