[发明专利]化学放大负性抗蚀剂组合物和图案形成方法

权利要求书

1.一种化学放大负性抗蚀剂组合物，包括(A)可溶于含水碱性显影剂的基础聚合物，(B)能够产生酸催化剂的酸产生剂，和(C)作为碱性组分的含氮化合物，所述作为组分(A)的基础聚合物在有或没有交联剂存在下，在酸催化剂作用下变为碱不溶性，其中

包括以下聚合物作为所述基础聚合物的至少一部分，所述聚合物包含具有通式(1)氟化羧酸鎓盐的重复单元，并具有1,000至50,000的重均分子量，

其中R¹是衍生自能够提供可聚合单体聚合活性的基础骨架的结构，其由以下通式任何一种表示：

其中结构中从氧原子延伸的价键表示与W¹的键，

R²是氟或氟烷基，

W¹是二价有机基，和

Q⁺是通式(a)或(b)的硫鎓阳离子，或通式(c)的碘鎓阳离子：

其中R³，R⁴和R⁵各自独立是取代或未取代、直链或支化C₁-C₁₀烷基、烯基或氧代烷基，或取代或未取代的C₆-C₁₈芳基、芳烷基或芳基氧代烷基，或R³，R⁴和R⁵中的至少两个可以与硫原子一起键合成环，

其中R⁶是取代或未取代、直链、支化或环状的C₁-C₂₀烷基或烯基，或取代或未取代的C₆-C₁₄芳基，m是1至5的整数，n是0或1，R⁶可具有在其上取代的羰基、羟基、酯结构、内酯结构、氨基、酰胺基或醚键氧原子，

其中R⁶是取代或未取代、直链、支化或环状的C₁-C₂₀烷基或烯基，或取代或未取代的C₆-C₁₄芳基，m是1至5的整数，n是0或1，R⁶可具有在其上取代的羰基、羟基、酯结构、内酯结构、氨基、酰胺基或醚键氧原子。

2.权利要求1的抗蚀剂组合物，其中具有通式(1)氟化羧酸鎓盐的重复单元是具有通式(2)氟化羧酸鎓盐的重复单元，

其中R⁷是氢或甲基，R⁸是氢或C₁-C₆烷基，R³，R⁴和R⁵各自独立是取代或未取代、直链或支化C₁-C₁₀烷基、烯基或氧代烷基，或取代或未取代的C₆-C₁₈芳基、芳烷基或芳氧烷基，或R³，R⁴和R⁵中至少两个可以与硫原子一起键合成环。

3.权利要求1的抗蚀剂组合物，其中包含氟化羧酸鎓盐重复单元的聚合物进一步包括具有通式(3)的单元：

其中R⁷是氢或甲基，A是单键或可以被醚键隔开的C₁-C₁₀亚烷基，R⁸各自独立是氢或C₁-C₆烷基，a是0至4的整数，b是1至5的整数，s是0或1，t是0至2的整数。

4.权利要求1的抗蚀剂组合物，其中包含氟化羧酸鎓盐重复单元的聚合物进一步包括具有通式(4)的单元：

其中R⁷是氢或甲基，R¹⁰选自氢、卤素、任选卤素取代的C₁-C₈烷基或烷氧基、脂环基、芳族基，以及任选卤素取代的C₂-C₈烷基羰氧基，c是1至5的整数。

5.权利要求1的抗蚀剂组合物，进一步包括不含通式(1)重复单元的聚合物作为所述基础聚合物的一部分。