[发明专利]记录介质

说明书

技术领域

本发明涉及记录介质。

背景技术

作为调节基材(substrate)上具有墨接受层的记录介质的表面光泽度的方法，已知控制记录介质的表面粗糙度的方法。日本专利申请公开No.2000-355160记载了表面的中心线平均粗糙度(高度)为0.8μm-4.0μm并且60°镜面光泽度为10％-30％的记录介质。日本专利申请公开No.2001-347748记载了表面的中心线平均粗糙度为0.4μm-2.5μm并且10点平均粗糙度为中心线平均粗糙度的5倍-20倍的记录介质。这些记录介质通过控制记录介质的表面粗糙度来抑制记录图像中的光泽不均匀和由于表面光泽而引起的眩目。

发明内容

在记录介质上记录图像，然后以它们的记录表面彼此接触的方式保存记录介质时，有时可能发生这样的现象：看起来似乎一个图像的形状发白地出现在另一图像上(转移不足(undertrapping))。认为这归因于水或水溶性有机溶剂在接触的记录介质之间移动的事实。水或水溶性有机溶剂移动时，在它们已移动的部分与它们尚未移动或几乎未移动的部分之间产生水或水溶性有机溶剂的存在量差。认为这引起图像上的转移不足。

存在另一问题，即由于记录介质之间的接触和摩擦，在记录介质的最外表面上产生划痕(scratch)，并且能够视认的划痕损害记录介质的外观。

已对日本专利申请公开No.2000-355160和2001-347748中记载的记录介质热心地进行了研究。结果，记录介质的表面粗糙度小时，彼此接触时这样的记录介质之间的粘合高，因此存在产生转移不足的倾向。此外，记录介质的最外表面的光泽度高，并且存在清楚地看到划痕的倾向。

另一方面，为了解决这些问题而使记录介质的最外表面的表面粗糙度大时，有时墨可能聚集在记录介质的最外表面的凹凸形状(unevenprofile)的凹部中以产生根据凹凸形状的斑点图案(mottledpattern)。仅通过控制记录介质的中心线平均粗糙度和10点平均粗糙度，难以抑制该根据凹凸形状的斑点图案。

因此，本发明的目的在于提供记录介质，其能够抑制转移不足的发生，降低记录介质的最外表面上划痕的可见性并且抑制进行记录时斑点图案的发生。

为了实现上述目的，本发明提供记录介质，其包括基材和设置在该基材上的墨接受层，其中该记录介质的最外表面的由JIS B0601：2001规定的算术平均粗糙度(arithmetic average roughness)Ra为1.1μm-2.5μm，并且该记录介质的最外表面的由JIS B 0601：2001规定的粗糙度曲线(roughness curve)的偏度(skewness)Rsk为0.1以下。

根据本发明，能够提供记录介质，其能够抑制转移不足的发生，降低记录介质的最外表面上划痕的可见性并且抑制进行记录时斑点图案的发生。

由以下对示例性实施方案的说明，本发明进一步的特征将变得清楚。

具体实施方式

现在对本发明的优选实施方案详细说明。顺便提及，本发明不应解释为限制于这些说明。

记录介质

根据本发明的记录介质是具有基材和设置在该基材上的墨接受层的记录介质。根据本发明的记录介质能够用作，例如，用毯头笔(felt-tip pen)进行记录的记录介质或者通过喷墨记录方法进行记录的记录介质。可将墨接受层设置在基材的一个表面或两个表面上。此外，可在基材上设置一个以上的墨接受层。