[发明专利]半导体元件套刻系统及半导体元件套刻方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种半导体元件套刻系统及一种半导体元件套刻方法，尤其涉及对不同曝光设备各工艺层次的套刻进行匹配的半导体元件套刻系统和半导体元件套刻方法。

背景技术

在半导体制造的光刻步骤，通过人工或系统维护最新产品的不同工艺层次曝光下货值，尤其是套刻下货值(overlap下货值)是一项细致而又繁琐的工作，而同一产品同一工艺层次在不同掩模板(tool)的曝光下货值往往又存在差异，即存在Tool overlap matching的问题，这更增加了光刻工程师的工作负荷和发生错误的概率。另外，已经量产的产品的掩模板有波动时往往处于被动局面，不能事先得到波动的讯息而预先更新下货值。

目前，维护最新产品不同工艺层次在不同掩模板的套刻下货值的一般做法有两种。其一，人为的补偿掩模板之间的差异；其二，忽略掩模板之间的差异，挑选比较相近的掩模板，或在切换掩模板时进行test run作业，即不同的掩模板采用不同的下货值，不考虑掩模板匹配的问题。第一种方法会增加光刻工程师的工作负荷，并且效果未必理想；第二种方法不满足大规模量产的要求，会影响在线移动或周转时间，并且，两者都不能做到及时自动更新。

发明内容

针对现有技术的不足，本发明目的在于提供一种自动、及时、准确的调整下货值的半导体元件套刻系统及半导体元件套刻方法。

为解决上述技术问题，本发明提供了一种半导体元件套刻系统，包括：光刻机，用于加工半导体元件；掩模板，用于在光刻机加工半导体元件时覆盖半导体元件；自动控制模块，用于确定掩模板套刻的最终下货值；所述自动控制模块包括匹配装置和修正装置，所述掩模板匹配装置用于初步计算掩模板套刻的预估下货值，所述修正装置用于计算当前掩模板套刻的修正下货值，所述自动控制模块将预估下货值和修正下货值求和得到掩模板套刻的最终下货值。

优选的，所述修正装置包括套刻质量控制元件和R2R元件，所述套刻质量控制元件定期测试套刻精度，将测试结果传送给R2R元件，所述R2R元件根据测试结果更新不同掩模板套刻的下货值。

优选的，所述套刻质量控制元件分别独立监控不同对准方式的掩模板。

优选的，所述R2R元件区分不同的对准方式，根据对准方式匹配下货值。

优选的，所述套刻质量控制元件测试套刻精度的方法包括以下步骤：第一，固定在一个掩模板作业，将半导体元件加工为标准晶圆；第二，监控所有掩模板轮流重复作业，测量套刻结果。

本发明还提供了一种半导体元件套刻方法，包括以下步骤：提供多个掩模板；提供光刻机；提供一种自动控制模块，其包括匹配装置和修正装置；匹配装置初步计算掩模板套刻的预估下货值；修正装置计算当前掩模板套刻的修正下货值；自动控制模块将预估下货值和修正下货值求和得到掩模板套刻的最终下货值。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：通过在自动控制模块中增加修正装置，自动调整最终下货值，减轻工程师的工作负荷，并且能实时、动态、准确的更新各工艺层次在不同掩模板的下货值，降低返工率，提高周转时间。

具体实施方式

具体实施方式的半导体元件套刻系统包括光刻机，用于加工半导体元件；掩模板，用于在光刻机加工半导体元件时覆盖半导体元件；自动控制模块(EPA，Equipment Automation Program)，用于确定掩模板套刻的最终下货值；所述自动控制模块包括匹配装置和修正装置，所述掩模板匹配装置用于初步计算掩模板套刻的预估下货值，所述修正装置用于计算当前掩模板套刻的修正下货值，即tool matching部分，所述自动控制模块将预估下货值和修正下货值求和得到掩模板套刻的最终下货值。

所述修正装置包括套刻质量控制元件(即tool overlap QC)和R2R元件(即photo R2R(run to run)系统)，所述套刻质量控制元件定期测试套刻精度，将测试结果传送给R2R元件，所述R2R元件根据测试结果更新不同掩模板套刻的下货值。

修正下货值可以根据套刻质量控制元件的测试结果再取一个系数(一般指比例)实现，系数大小根据相关掩模板的性能及测试结果权衡给出。套刻质量控制元件要求能过自动收值，以便R2R元件自动更新下货值。