[发明专利]闸介电层的制作方法

权利要求书

1.一种闸介电层的制作方法，包括：

进行一氧化处理，以于一基底上形成一氧化物层；

进行一氮化处理，以于该氧化物层上形成一氮化物层；以及

在氮气与氧气的一混合气体中进行一回火处理，其特征在于该回火处理的温度介于900℃至950℃之间，该回火处理的压力介于5Torr至10Torr之间，且该混合气体中氮气含量与氧气含量的比值介于0.5至0.8之间。

2.根据权利要求1所述的闸介电层的制作方法，其特征在于该混合气体中氮气含量与氧气含量的比值为0.625。

3.根据权利要求1所述的闸介电层的制作方法，其特征在于该氧化处理包括进行原位蒸气产生制程。

4.根据权利要求1所述的闸介电层的制作方法，其特征在于该氮化处理包括进行去耦等离子体氮化制程。

5.根据权利要求1所述的闸介电层的制作方法，其特征在于在该回火处理的期间，一氮氧化物层形成于该氮化物层上。