[发明专利]碲化铥靶材的生产工艺

权利要求书

1.一种碲化铥靶材的生产工艺的方法，其特征在于包括如下步骤：

（1）原料装入密封的石英管

把原料4N的高纯金属Tm经压制，破碎成小块状或粉末，4N的高纯金属Te也破碎成小块一起装入石英管内；石英玻璃管壁厚度为2.5～3.5 mm，直径为Φ35 mm，长度为450 mm，装料量200～350 g，软化点1400 ℃；石英管用王水清洗，再用去离子水洗涤，然后用红外线烘干，石英管内抽至真空度10-2托，然后加热石英管抽气口，达到熔化后密封石英管；

（2）双温区密管合成

把装好原料的密管放入高温箱式炉内加热，双温区密管合成法是密管内保持在一个大气压，密管的一端在加热炉的高温区，使管内温度达到500～650 ℃，另一端用水冷保持在80～120 ℃，这样密管内形成两个温区，完成Tm和Te合成化合物TmTe；

（3）制粉

在密管内合成的化合物TmTe是块状的，磨成粒度为80～180目粉末作为压成靶材的原料；

（4）成形

溅射靶材按不同溅射仪要求不同的形状，一般是圆盘状，所以要把粉末制成规定形状的靶材；

用真空热等静压工艺，在真空热等静压设备上压制成形，施压60～65 t，热压时间4～6 min，采用有机脱模剂，压模为不锈钢。

2.如权利要求1所述一种碲化铥靶材的生产工艺的方法，其特征在于还包括如下步骤：

成形后溅射靶材再经热处理，热处理的加热温度取0.4×T熔点，处理时间2～3 h；经压制和热处理后的是坯料，还要经线切割，圆磨、平抛加工，由于这种化合物容易燃烧，加工时要冷却或用惰性气氛保护，TmTe溅射靶材产品规格：

1）物理规格：Φ60 mm-0.1×5 mm-0.1；

2）相对密度：93%；

   3）纯度：99.0%，其中杂质Fe、Co、Ni、Zn、Se、S、Al、Mg、Ca、Cu、Ce、La 的含量都要<10 ppm。