[发明专利]一种等离子体源装置有效
申请号: | 201110148922.3 | 申请日: | 2011-06-03 |
公开(公告)号: | CN102802337A | 公开(公告)日: | 2012-11-28 |
发明(设计)人: | 刘若鹏;季春霖;岳玉涛;尹小明 | 申请(专利权)人: | 深圳光启高等理工研究院;深圳光启创新技术有限公司 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 等离子体 装置 | ||
1.一种等离子体源装置,其特征在于,包括:微波发生器、超材料以及等离子生成器,所述的微波发生器、超材料以及等离子生成器依次设置,所述的微波发生器用于产生微波;所述的超材料用于将所述的微波发生器发出的微波调制成能与所述的等离子发生器发生谐振的微波后,发送至所述的等离子生成器;所述的等离子体生成器用于生成等离子体。
2.根据权利要求1所述的等离子体源装置,其特征在于,所述超材料由基材以及多个人造微结构组成,所述基材分成多个晶格,一个人造微结构置于一个晶格中形成一个单元,所有的单元在空间中形成周期阵列。
3.根据权利要求2所述的等离子体源装置,其特征在于,所述超材料由多个超材料片状基板堆叠形成,超材料片状基板由基材以及多个人造微结构组成,所述基材分成多个晶格,一个人造微结构置于一个晶格中形成一个单元,所有的单元在空间中形成周期阵列。
4.根据权利要求3所述的等离子体源装置,其特征在于,所述所有的单元在空间中呈均匀性的周期阵列。
5.根据权利要求1所述的等离子体源装置,其特征在于,在基材选定的情况下,通过改变人造微结构的图案、设计尺寸和/或人造微结构在空间中的排布获得内部的调制结果分布。
6.根据权利要求2或3所述的等离子体源装置,其特征在于,所述基材由陶瓷材料、高分子材料、铁电材料、铁氧材料或铁磁材料制得。
7.根据权利要求2或3所述的等离子体源装置,其特征在于,所述的人造微结构为具有图案的附着在基材上的金属线。
8.根据权利要求7所述的等离子体源装置,其特征在于,所述金属线通过蚀刻、电镀、钻刻、光刻、电子刻或离子刻的方法附着在基材上。
9.根据权利要求7所述的等离子体源装置,其特征在于,所述金属线为铜线或银线。
10.根据权利要求7所述的等离子体源装置,其特征在于,所述金属线呈二维雪花状,其具有相互垂直呈“十”字的第一主线及第二主线,所述第一主线的两端各垂直设置一个第一支线,所述第二主线的两端各垂直设置一个第二支线。
11.根据权利要求10所述的等离子体源装置,其特征在于,所述第一主线及第二主线相互平分,所述第一支线的中心连接在第一主线上,所述第二支线的中心连接在第二主线上。
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