[发明专利]Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统无效
| 申请号： | 201110150171.9 | 申请日： | 2011-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN102226266A | 公开（公告）日： | 2011-10-26 |
| 发明（设计）人： | 阮洪良;阮泽云 | 申请（专利权）人： | 福莱特光伏玻璃集团股份有限公司;上海福莱特玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/56;C23C14/18;C03C17/09 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 王敏杰 |
| 地址： | 314001 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | low 玻璃 真空镀膜 操作 中将 输入 负压室 系统 | ||
【权利要求书】：
1.一种Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统，它包括负压室（1），其特征在于：该负压室（1）具有一入口闸门（10），该入口闸门（10）前具有基片输送带（2）；该负压室（1）上具有进气阀（11）和真空抽气口，该真空抽气口连接到负压形成装置上。
2.根据权利要求1所述的Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统，其特征在于：该负压形成装置包括与负压室（1）上真空抽气口连接的管线，管线上具有抽气阀（3）和储气罐（4），管线的另一端则连接有真空泵（5）。
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