[发明专利]一种清除光刻掩模板表面微尘颗粒的方法

权利要求书

1.一种清除光刻掩模板表面微尘颗粒的方法，其特征在于，采用吸气方式清除光刻掩模板表面的微尘颗粒。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述吸气方式清除光刻掩模板表面的微尘颗粒是利用一吸气式空气枪系统实现的。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述的吸气式空气枪系统包括控制设备和吸气式空气枪；

所述控制设备通过一连接装置与所述吸气式空气枪连接，用于控制所述吸气式空气枪在所述光刻掩模板的表面的上方进行摆动扫描，同时进行吸气以清除光刻掩模板表面的微尘颗粒。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述吸气式空气枪在所述光刻掩模板的上方对于所述光刻掩模板表面的所有区域进行扫描并吸气以清除光刻掩模板表面的微尘颗粒。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，扫描光刻掩模板表面的方式为吸气式空气枪从光刻掩模板表面的一端扫描到光刻掩模板表面的另一端，并且所述吸气式空气枪进行多次往返扫描。

6.如权利要求4所述的方法，其特征在于，扫描光刻掩模板表面的方式为所述吸气式空气枪在光刻掩模板表面的上方做直径递减的圆周运动，从光刻掩模板表面的外圈扫描到光刻掩模板表面的内圈，直至扫描到光刻掩模板表面的中心区域。

7.如权利要求4所述的方法， 其特征在于，扫描光刻掩模板表面的方式为所述吸气式空气枪在光刻掩模板表面的上方沿着光刻掩模板表面的一条对角线移动运动的同时以所述对角线为中心轴做左右摆动以使扫描区域覆盖光刻掩模板表面的所有区域。