[发明专利]一种修复微污染水体的方法及潜流人工湿地系统无效
申请号: | 201110151325.6 | 申请日: | 2011-06-08 |
公开(公告)号: | CN102276110A | 公开(公告)日: | 2011-12-14 |
发明(设计)人: | 黄磊;高旭;郭劲松;谢伟丹;马晓霞;刘明 | 申请(专利权)人: | 重庆大学 |
主分类号: | C02F9/14 | 分类号: | C02F9/14 |
代理公司: | 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 | 代理人: | 李海华 |
地址: | 400044 *** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 修复 污染 水体 方法 潜流 人工 湿地 系统 | ||
1.一种修复微污染水体的方法,其特征在于,其修复步骤为:
1)微污染水体先进入第一级水处理区,在第一级水处理区进行沉砂并实现均匀布水;
2)经第一级水处理区处理后的微污染水体进入第二级水处理区,第二级水处理区为湿地床,湿地床主要由填料和水生植物构成,水生植物为芦竹,栽种密度为10~20株/m2;填料由上层填料和下层填料构成,上层填料为砾石,砾石粒径为5~10mm;下层填料为页岩砖,页岩砖粒径为10~60mm,水生植物的根系生长于湿地床的填料中;
3)经第二级水处理区处理后的微污染水体进入第三级水处理区,第三级水处理区用于均化出水水质,经第三级水处理区处理后的微污染水体即可排出进入外部水体;
本方法采用水平流态,运行方式为连续进水,水力负荷控制为1.0~3.0 m3/m2·d。
2.根据权利要求1所述的修复微污染水体的方法,其特征在于:所述第二级水处理区横截面为矩形,长宽比为3~4:1,底部沿水流方向有1%~2%向下的坡度。
3.根据权利要求1或2所述的修复微污染水体的方法,其特征在于:所述上层填料高度为0.1~0.2 m,下层填料高度为0.5~0.8m。
4.根据权利要求3所述的修复微污染水体的方法,其特征在于:所述页岩砖粒径为40~60mm或20~40mm或10~20mm。
5.根据权利要求1所述的修复微污染水体的方法,其特征在于:所述下层填料由下至上依次由粒径为40~60mm的大粒径页岩砖、20~40mm的中粒径页岩砖和10~20mm的小粒径页岩砖构成。
6.一种修复微污染水体的潜流人工湿地系统,其特征在于:它主要由第一级水处理区、第二级水处理区和第三级水处理区构成,第一级水处理区为进水区,进水区下部收口形成集砂斗(3),集砂斗(3)以上的部分为沉砂区(2),沉砂区(2)上设有进水管(1);第二级水处理区为湿地床,湿地床主要由填料和水生植物(6)构成,水生植物为芦竹,栽种密度为10~20株/m2;填料由上层填料(4)和下层填料(5)构成,上层填料(4)为砾石,砾石粒径为5~10mm;下层填料(5)为页岩砖,页岩砖粒径为10~60mm,水生植物的根系生长于填料中;第三级水处理区为出水区,在第三级水处理区的底部设有排水管(9);第一级水处理区和第二级水处理区之间通过两者的公共墙(7)上的过水孔(10)连通,第二级水处理区和第三级水处理区之间通过两者的公共墙(7)上的过水孔(10)连通。
7.根据权利要求6所述的修复微污染水体的潜流人工湿地系统,其特征在于:所述第二级水处理区横截面为矩形,长宽比为3~4:1,底部沿水流方向有1%~2%向下的坡度。
8.根据权利要求6或7所述的修复微污染水体的方法,其特征在于:所述上层填料(4)高度为0.1~0.2 m,下层填料(5)高度为0.5~0.8m。
9.根据权利要求8所述的修复微污染水体的方法,其特征在于:所述页岩砖粒径为40~60mm或20~40mm或10~20mm。
10.根据权利要求6所述的修复微污染水体的方法,其特征在于:所述下层填料(5)由下至上依次由粒径为40~60mm的大粒径页岩砖、20~40mm的中粒径页岩砖和10~20mm的小粒径页岩砖构成。
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