[发明专利]一种甲基肼的分析方法有效

专利信息
申请号: 201110153007.3 申请日: 2011-06-09
公开(公告)号: CN102323224A 公开(公告)日: 2012-01-18
发明(设计)人: 李传博;郑卫芳;宴太红;刘金平;张宇;卞晓艳;左臣;鲜亮;袁中伟;张柏青;张琪臻;娄海林 申请(专利权)人: 中国原子能科学研究院
主分类号: G01N21/31 分类号: G01N21/31;G01N21/33
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 102413*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 甲基 分析 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及核燃料后处理技术领域,特别涉及一种甲基肼的分析方法。

背景技术

甲基肼为有机弱碱,具有还原性。其水溶液和酸溶液均为无色液体。甲基肼与HNO2反应迅速,并且不与U(VI)发生反应;所以它可以应用于乏燃料后处理中,用以除去流程中的HNO2。通常它与N,N-二甲基羟胺一起加入到后处理流程中使用。申请人开发了基于N,N-二甲基羟胺(DMHAN)和甲基肼(MMH)作为还原体系的先进二循环Purex流程。

当甲基肼与氧化剂如HNO2发生氧化还原反应时,自身被氧化为甲醛、甲醇等。当甲基肼处于辐照场中时,经a或γ辐解可以生成为甲醇、甲醛和甲胺等。

甲基肼为有机弱碱,可以与H+发生反应,所以可以用酸碱滴定法测定甲基肼的浓度。但是当溶液中含有N,N-二甲基羟胺,以及甲基肼的辐解产物甲胺和二甲胺时,甲基肼、甲胺和二甲胺均为有机弱碱,也可以与H+发生反应,此时酸碱滴定法受到干扰,已不再适用。

由于甲基肼与对二甲氨基苯甲醛可以发生缩合反应,所生成的相应的腙在458nm处有吸光度,因此可以用分光光度法测定甲基肼的浓度。但当溶液含有甲醇、乙醇和甲醛时,其中甲醇、乙醇均可以与对二甲氨基苯甲醛发生缩合反应;而且甲醛也可以与甲基肼发生缩合反应;甲醇、乙醇和甲醛会对该方法产生严重干扰。所以,当体系中含有甲醇、甲醇和甲醛时该方法不再适用。

在2008年公开的《中国核科技报告》第1期的“间接分光光度法测定单甲基肼、二甲基羟胺”一文中公开了采用间接分光光度法测定了N,N-二甲基羟胺和甲基肼的浓度。在他们所建立的实验条件下,测定甲基肼时,当溶液中含有N,N-二甲基羟胺时N,N-二甲基羟胺也会发生反应,其所测结果为甲基肼和N,N-二甲基羟胺的总浓度,不能只测出其中甲基肼的浓度。其次,经我们实验验证:甲醛会对该条件下的分析方法产生干扰。再次,当溶液中含有Pu3+时文章并没有给出进一步的分析方法。

1999年6月公开的《沈阳化工》中的“甲基肼溶液含量的测定方法”文章中公开了用酸碱滴定法和氧化还原法对甲基肼的分析方法。其中氧化还原法用I2作为氧化剂,用淀粉作为指示剂,通过加入Na2CO3控制体系保持为碱性环境。该方法的局限性在于:该方法只所以保持体系处于碱性环境下是因为在碱性条件下I2与甲基肼的反应速率较快,而只有当I2与另一种物质反应速率较快时才可以用淀粉作为指示剂;若I2与另一种物质反应速率较慢时,淀粉在远离滴定终点时便会变色,使滴定产生很大的误差。其次,在碱性条件下I2自身会发生歧化反应从而影响滴定准确度。再次,在碱性条件下,当溶液中含有甲醛、N,N-二甲基羟胺时,I2也会与甲醛和N,N-二甲基羟胺发生氧化还原反应,从而干扰甲基肼的分析测定。

目前,关于分析甲基肼相关的文章较多,例如,在2002年第29卷第3期公开的《辽宁大学学报》中的“甲基肼含量的气相色谱分析”文章中涉及一种用气相色谱对甲基肼进行分析的方法。在2008年公开的《中国原子能科学研究院年报》中的“后处理流程中甲基肼测定的离子色谱法”文章中涉及一种用离子色谱对甲基肼分析的方法。上述方法存在以下缺点:一方面,气相色谱或离子色谱仪器价格较高,不经济实用。另一方面,当溶液中含有Pu3+等放射性离子时,放射性离子会沾污气相色谱或离子色谱仪器,并对气相色谱或离子色谱仪器中用以分离各种干扰物质的固定相产生永久性的辐照,对仪器可能产生的破坏作用和干扰作用,以及测量别的物质时的干扰作用都无法预料。因此,急需研发一种新的、效果好的分析方法。

发明内容

本发明克服了现有技术中的不足,提供了一种操作简便、有效避免干扰、取样量少、监测下限低的且不会对设备产生沾污或破坏的甲基肼的分析方法。

为了解决上述技术问题,本发明是通过以下技术方案实现的:

一种甲基肼的分析方法,关键在于,该方法包括以下步骤:

(1)配置甲基肼的标准水溶液;

(2)配置I2的水溶液;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国原子能科学研究院,未经中国原子能科学研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110153007.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top