[发明专利]可见光高透射率DLC涂层的制备方法无效
| 申请号： | 201110156791.3 | 申请日： | 2011-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN102330063A | 公开（公告）日： | 2012-01-25 |
| 发明（设计）人： | 乐务时;钱涛 | 申请（专利权）人： | 星弧涂层科技(苏州工业园区)有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/46 | 分类号： | C23C14/46;C23C14/06 |
| 代理公司： | 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 | 代理人： | 陆明耀;陈忠辉 |
| 地址： | 215022 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 可见光 透射率 dlc 涂层 制备 方法 | ||
1.一种可见光高透射率DLC涂层的制备方法，其特征在于：包括以下步骤，
步骤一：将镀膜真空室抽至5.0*10-3Pa以上的真空度；
步骤二：使用加热器加热所述镀膜真空室至200-400℃，并保持至少1小时，并使所述镀膜真空室的真空度达到1.0×10-3Pa以上；
步骤三：向镀膜真空室内通入氩气，使真空腔内的真空度达到1.0-20.0Pa，
步骤四：开启离子束电源，开始对基板表面进行离子清洗工序；离子清洗过程中，偏压200-2000V，施加在离子束上的工作电压大于1000V，工作电流在50mA-150mA之间；离子清洗工序的时间为5-30分钟；
步骤五：通入碳氢反应气体，使真空腔内的真空度达到0.05Pa～10.0Pa；
步骤六：开启溅射电源开始溅射镀膜，偏压大于1000V，施加在离子束电压大于1000V，离化电流50-200mA，直至涂层厚度达到10-500nm，结束。
2.根据权利要求1所述的可见光高透射率DLC涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤四和步骤六中，所述镀膜真空室的温度始终保持在200-400℃之间。
3.根据权利要求1所述的可见光高透射率DLC涂层的制备方法，其特征在于：所述碳氢反应气体为CH4或C2H2。
4.根据权利要求1所述的可见光高透射率DLC涂层的制备方法，其特征在于：所述基板为光学玻璃。
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