[发明专利]快速分离衬底与外延层的方法无效

专利信息
申请号: 201110157417.5 申请日: 2011-06-13
公开(公告)号: CN102299214A 公开(公告)日: 2011-12-28
发明(设计)人: 成诗恕 申请(专利权)人: 协鑫光电科技(张家港)有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;姜精斌
地址: 215600 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 快速 分离 衬底 外延 方法
【权利要求书】:

1.一种快速分离衬底与外延层的方法,其特征在于,包括:

取一发光二极管,该发光二极管的衬底与外延层之间具有一个薄层的可移除材料;

对该薄层的可移除材料施加能量,使得该薄层的可移除材料的状态产生变化;

通过可移除材料状态变化,使得衬底与外延层不再结合,进而使得该衬底与该外延层分离。

2.如权利要求1所述的快速分离衬底与外延层的方法,其特征在于:该薄层的可移除材料是通过蒸镀、物理沉积或化学沉积的方式形成于外延层与衬底之间。

3.如权利要求1所述的快速分离衬底与外延层的方法,其特征在于:所述可移除材料为金属、合金或无机氧化物,且其厚度为1nm至10μm。

4.如权利要求1所述的快速分离衬底与外延层的方法,其特征在于:所述对该薄层的可移除材料施加能量包括加热、照光和微波方式。

5.如权利要求1所述的快速分离衬底与外延层的方法,其特征在于:所述可移除材料的状态产生变化包括熔化、气化和分解。

6.一种快速分离衬底与外延层的方法,其特征在于,包括:

取一发光二极管,该发光二极管的衬底与外延层之间具有一个薄层的可移除材料;

对该薄层的可移除材料施加溶剂,使得该薄层的可移除材料的状态产生变化;

通过可移除材料状态变化,使得衬底与外延层不再结合,进而使得该衬底与该外延层分离。

7.如权利要求6所述的快速分离衬底与外延层的方法,其特征在于:该薄层的可移除材料是通过蒸镀、物理沉积或化学沉积的方式形成于外延层与衬底之间。

8.如权利要求6所述的快速分离衬底与外延层的方法,其特征在于:所述可移除材料为金属、合金或无机氧化物,且其厚度为1nm至10μm。

9.如权利要求6所述的快速分离衬底与外延层的方法,其特征在于:所述溶剂为蚀刻液、无机溶剂或有机溶剂。

10.如权利要求6所述的快速分离衬底与外延层的方法,其特征在于:所述可移除材料的状态产生变化包括解离、溶解和分解。

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