[发明专利]一种绿葬式墓林结构无效
申请号: | 201110158808.9 | 申请日: | 2011-06-14 |
公开(公告)号: | CN102370563A | 公开(公告)日: | 2012-03-14 |
发明(设计)人: | 杨建良 | 申请(专利权)人: | 杨建良 |
主分类号: | A61G17/00 | 分类号: | A61G17/00 |
代理公司: | 沈阳亚泰专利商标代理有限公司 21107 | 代理人: | 韩辉 |
地址: | 110003 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 绿葬式墓林 结构 | ||
技术领域
本发明涉及一种坟墓结构,特别是涉及一种绿葬式墓林结构。
背景技术
我国人多地少,墓地浪费了大量的土地。据网络统计,全国墓地占有土地面积已达约1亿亩。很多丘陵地国家连别墅都不允许建设,却被开发墓园所占。每年将新增占地数千亩。死人与活人争地的矛盾将愈演愈烈,情形相当严重。
为革除丧葬陋俗,积极推进殡葬改革,解决散埋乱葬等问题,近年来开展的一种公益性林葬公墓形式引起了人们的注意。这种骨灰(遗骸)安置形式具有节约土地资源、不改变土地使用性质、免审批、公益性等特点,但也存在不能合理利用现有林地资源、维护生态环境较差的不足。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术存在的上述不足,给出一种新的绿葬式墓林结构。这种绿葬式墓林结构是基于现有林地的大多数树木的行距约为2米×2米(斜角树距约为2.8米)或行距约为2米×3米(斜角树距约为4.4米),由于树木之间的行距,使树林中产生了矩阵状多点(野生荒林以适中树距)空地,每点空地约2-5平方米以上,每点空地的地下完全可采用科学方法安置骨灰(遗骸)而设计的。本发明即有植树绿化开辟荒山的作用,又能解决了死人和活人争地的问题,还能合理利用现有的林地或山丘荒林地的资源,不毁坏已有林木、不浪费土地而又使人们普遍认可。据估算每年可改善环境、节约土地约7000亩以上,将从根本上转变墓地争地的现状。同时,由于林中禁火的法规,也杜绝了传统上坟时焚烧、上香的旧习俗,取而代之的是植树、浇灌、献花等文明风尚的绿葬祭祀活动。
本发明给出的技术解决方案是: 这种绿葬式墓林结构,由地下和地表两个部分组成,其中地下部分设在树林的行距中,以树林的行距(或无规则行距的荒林选择有足够尺寸的间距)中的树木围合产生空地的中心为绿葬中心,装有骨灰(或遗骸)的容器安置在深度位于周边树木主根以下的绿葬中心的地下穴位中,并使骨灰(或遗骸)容器的正位摆放在正对主树或正对两树之间;地表部分由绿葬中心的地上坟址和以树体或树桩为碑的沿地上坟址的周边树木组成,其中主树木的树体(或两棵树中间设置的树桩)上安装有遗像碑文板。
为更好的完成本发明的目的,所述主树木或树桩安装的遗像碑文板是由防腐防水材料制作并通过遗像碑文板镶嵌或固定架安装在主树木的树体(或两棵树中间设置的树桩)上,该遗像碑文板固定架是结合树体的圆柱形体呈内圆弧形,为树木生长留出空间,遗像碑文板固定架内侧由防腐透气类软材料做衬垫。
为更好的完成本发明的目的,地表部分中的沿骨灰(或遗骸)容器之上的地面边线标有永久标志,以保护陵寝内部不被人为活动损坏。
为更好的完成本发明的目的,所述地表部分的地上坟址靠自然找坡排水,该找坡路面不小于3%坡度。
为更好的完成本发明的目的,原有林地改为绿葬陵寝林地时,以空地周围树木对角线的交叉点为绿葬中心;新建绿葬陵寝林地时,树木行距之间采用三三制方式排列矩阵,使每个陵寝周围为三棵树木,相邻横向行距相错,以便在砍伐换栽时,不会因倒伐损坏周围陵寝及其他。
在本发明的上述技术方案中,所述的“树林的行距”是指树林的横行距间与纵行距间之间的空间;所述的“遗骸”特指遗体或骸骨;“坟址”指具体安葬地点;“主树木”是指正对于坟址的树木并安装有遗像碑文板;“树桩”这里特指坟碑或代替坟碑之物。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:通过利用树木之间的行距产生的矩阵状多点空地安置骨灰(或遗骸),即有植树绿化开辟荒山的作用,又能解决了死人和活人争地的问题,还能合理利用现有的林地或山丘荒林地的资源,不毁坏已有林木、不浪费土地而又使人们普遍认可。
附图说明
图1为绿葬式墓林结构的结构示意图。
图2-1和图2-2为绿葬式墓林结构的平面图。
图3为新建绿葬林地时的绿葬式墓林结构平面图。
图4为已有林地改造绿葬林地时的绿葬式墓林结构平面图。
图5为遗像板安装位置示意图。
图6为遗像板安装结构横剖面图。
图7为绿葬式墓林结构坡度示意图。
图8为绿葬林地保护型矩阵式排列示意图。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杨建良,未经杨建良许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110158808.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:等离子体处理装置和沉积方法
- 下一篇:一种MDT的测量配置方法和设备