[发明专利]一种镀氧化铟锡的涤纶异形纤维的生产方法无效

专利信息
申请号: 201110159550.4 申请日: 2011-06-15
公开(公告)号: CN102828286A 公开(公告)日: 2012-12-19
发明(设计)人: 樊健美 申请(专利权)人: 樊健美
主分类号: D01F11/08 分类号: D01F11/08;C23C14/35;C23C14/08;C08J7/06;D01D5/42;D01D5/253
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地址: 312030 浙江省绍*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 氧化 涤纶 异形 纤维 生产 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种涤纶纤维的生产方法,更具体地说,它涉及一种镀氧化铟锡的涤纶异形纤维的生产方法。

技术背景

氧化铟锡薄膜,简称ITO薄膜,具有在可见光范围内的高透射比、红外高反射比、良好的电导率等性能。这些性能使ITO薄膜被广泛地用于制造各种器件,如彩色显示器的有机发光器件、液晶屏、汽车贴膜、太阳能电池、汽车防雾玻璃等。此外,ITO薄膜对微波还具有强烈的衰减作用。因此将氧化铟锡薄膜优异的光电性能和纺织纤维有效结合,可以使纤维获得一系列特殊的功能,如抗静电、红外隐身、微波屏蔽和抗紫外等。镀有氧化铟锡薄膜层的纤维产品是具有广阔的应用前景的。到目前为止,镀氧化铟锡薄膜层的纤维长丝和短纤维均未见到。

发明内容

本发明的目的是提供一种简单、高效的镀有氧化铟锡薄膜层的涤纶异形纤维的生产方法。

本发明是通过以下技术方案予以实现的:对涤纶薄膜进行真空镀膜,在薄膜的两个面上镀上氧化铟锡,然后对镀后的薄膜进行微细切割,卷绕成形,即制得镀有氧化铟锡的涤纶纤维。所述的氧化铟锡薄膜层的厚度为10nm~500nm。所述的薄膜微细切割的宽度为0.1mm~1.0mm,所用薄膜的厚度为6μm~50μm。所述的真空镀膜的方法是磁控溅射。

本发明的有益效果是:(1)生产设备简单,流程短,效率高;(2)纤维柔软、镀层牢固。

附图说明

附图是镀有氧化铟锡层的涤纶异形纤维的结构示意图。(见图1)

具体实施方式

下面对本发明作进一步的描述。

实施例1

生产设备:卷绕式磁控溅射镀膜机。

基材:厚度为6μm的涤纶薄膜。

靶材:纯度为99.99%的氧化铟锡靶(由97wt%In2O3和3wt%SnO2烧结而成)。

生产条件:溅射工作空气纯度为99.99%的氩气(AR),真空室本底真空度为10-3Pa,基材-靶的距离固定为0.12m,工作气压为0.3Pa,卷绕速度为10m/min,溅射的功率为1500W。

对涤纶薄膜进行双面镀膜后,再进行微细切割,切割的宽度为0.1mm。然后进行卷绕成形。由于采用厚度仅为6μm薄膜,切割宽度也仅为0.1mm,所以柔软性较好,可以再对卷绕后的纤维长丝进行切断,切断间距为25mm。即制得镀有氧化铟锡薄膜层、横截面为长方形的涤纶短纤维。具体规格为:涤纶短纤维横截面的宽度为0.1mm,厚度为6μm,氧化铟锡薄膜层的厚度约为60nm,纤维长度为25mm。如图1所示,1为氧化铟锡薄膜层,2为涤纶纤维。

实施例2

生产设备:卷绕式磁控溅射镀膜机。

基材:厚度为35μm的涤纶薄膜。

靶材:纯度为99.99%的氧化铟锡靶(由97wt%In2O3和3wt%SnO2烧结而成)。

生产条件:溅射工作空气纯度为99.99%的氩气(Ar),真空室本底真空度为10-3Pa,基材-靶的距离固定为0.12m,工作气压为0.3Pa,卷绕速度为2m/min,溅射的功率为2000W。

对涤纶薄膜进行双面镀膜后,再进行微细切割,切割的宽度为0.65mm。然后进行卷绕成形。即制得镀有氧化铟锡薄膜层、横截面为长方形的的涤纶长丝。具体规格为:涤纶长丝横截面的宽度是0.65mm,厚度是35μm,氧化铟锡薄膜层的厚度约为300nm。如图1所示,1为氧化铟锡薄膜层,2为涤纶纤维。

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