[发明专利]用于测量表面未对准和角度未对准的设备无效

专利信息
申请号: 201110160497.X 申请日: 2011-06-15
公开(公告)号: CN102364317A 公开(公告)日: 2012-02-29
发明(设计)人: 植木伸明;神田秀雄 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02;G01B11/00;G01B11/26
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴敬莲
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 用于 测量 表面 对准 角度 设备
【权利要求书】:

1.一种用于测量样品的两个样品表面之间的表面未对准和角度未对 准的设备,所述样品表面中的每一个都具有旋转对称的弯曲部分,所述设 备包括:

测量光束转换元件,所述测量光束转换元件用于将测量光束转换成第 一偏转通量和第二偏转通量,并将所述第一偏转通量和所述第二偏转通量 输出到所述样品,所述第一偏转通量被垂直入射在所述样品表面的第一区 域上,并作为第一反射通量从所述第一区域被反射,所述第二偏转通量被 垂直入射在所述样品表面的第二区域上,并作为第二反射通量从所述第二 区域被反射,所述测量光束转换元件输出所述第一反射通量和所述第二反 射通量,所述第一偏转通量和所述第二偏转通量相对于所述测量光束转换 元件的光轴具有不同的波前传播角度;

干涉仪测量光学系统,所述干涉仪测量光学系统用于输出所述测量光 束并形成第一干涉条纹和第二干涉条纹,所述第一干涉条纹由基准光束和 来自所述测量光束转换元件的第一反射通量的干涉形成,所述第二干涉条 纹由所述基准光束和来自所述测量光束转换元件的所述第二反射通量的 干涉形成;

成像单元,所述成像单元用于使所述第一干涉条纹和所述第二干涉条 纹成像;和

分析单元,所述分析单元用于根据为所述两个样品表面中的每一个获 得的所述第一干涉条纹和所述第二干涉条纹的相位信息分析所述表面未 对准和所述角度未对准。

2.根据权利要求1所述的设备,其中,所述偏转通量中的每一个都为 圆锥形通量。

3.根据权利要求2所述的设备,其中,所述测量光束转换元件为衍射 光栅。

4.根据权利要求3所述的设备,还包括具有第一表面和第二表面的基 准板,所述第一表面将入射激光束分成所述测量光束和所述基准光束,所 述第二表面为衍射光栅。

5.根据权利要求1所述的设备,其中,每一个样品都布置有所述两个 测量光束转换元件、所述两个干涉仪测量光学系统、和所述两个成像单元, 以为所述两个样品表面中的每一个获得所述第一干涉条纹和所述第二干 涉条纹的相位信息,所述样品放置在所述两个测量光束转换元件之间、和 所述两个干涉仪测量光学系统之间、和所述两个成像单元之间。

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