[发明专利]悬喷式MOCVD反应器

权利要求书

1.一种悬喷式MOCVD反应器，包括喷嘴(1)、基座(19)、盖板(11)、导流孔(18)和反应区(2)，其特征在于，所述喷嘴(1)置于基座(19)中心，喷嘴包括上喷嘴(7)和下喷嘴(8)，下喷嘴(8)位于上喷嘴(7)下部，且上喷嘴和下喷嘴分别设有两个径向通道；所述基座(19)包括大石墨盘(3)，所述大石墨盘(3)内沿圆周方向设有小石墨盘(4)，各小石墨盘(4)内沿圆周方向设有晶片衬底(6)，大石墨盘(3)底部设有公转驱动机构(20)，各小石墨盘(4)底部设有自转驱动机构(22)；反应区腔体内壁沿圆周方向设有导流孔(18)。

2.根据权利要求1所述悬喷式MOCVD反应器，其特征是，所述下喷嘴(8)顶端设有导向器，上喷嘴(7)上部为上载气通道(14)，上喷嘴(7)下部为V族源通道(15)，下喷嘴(8)上部为I I I族源通道(16)，下喷嘴(8)下部为下载气通道(17)。

3.根据权利要求2所述悬喷式MOCVD反应器，其特征是，所述上载气通道(14)为水平方向。

4.根据权利要求2所述悬喷式MOCVD反应器，其特征是，所述V族源通道(15)为水平方向。

5.根据权利要求2所述悬喷式MOCVD反应器，其特征是，所述III族源通道(16)为斜向上方向。

6.根据权利要求2所述悬喷式MOCVD反应器，其特征是，所述下载气通道(17)为水平方向。

7.根据权利要求1所述悬喷式MOCVD反应器，其特征是，所述公转驱动机构(20)包括驱动电机，由驱动电机带动基座(19)底部空心轴转动。

8.根据权利要求1所述悬喷式MOCVD反应器，其特征是，所述自转驱动机构(22)包括电机，并在小石墨盘(4)外侧设有行星齿轮(21)，由电机(21)驱动行星齿轮(21)，进而带动小石墨盘(4)转动。

9.根据权利要求1所述悬喷式MOCVD反应器，其特征是，所述反应器的高度H为25mm-30mm。

10.根据权利要求1所述悬喷式MOCVD反应器，其特征是，所述导流孔的高度h低于盖板沿边3mm-5mm。